維意真空小型桌面熱蒸發鍍膜機支持定制

EV-246小型電阻蒸發鍍膜機

真空腔室：1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構；

真空系統：機械泵+分子泵（進口和國產可選）；

極限真空：優于8?10-5Pa（設備空載抽真空24h）；

真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；

基片臺：可拆卸式，尺寸60?60mm，旋轉0～20r/min可調，可加熱至300℃（可選水冷功能）；

蒸發源及電源：水冷銅電極3組，逆變式蒸發電源，功率2KW，配源間防污隔板；

膜厚監控儀：采用國產或進口膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚；

控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空；

整機尺寸：L60cm?W60cm?H96cm機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口。

維意真空小型桌面熱蒸發鍍膜機支持定制

EV-400高真空金屬有機蒸發鍍膜機

真空腔室：前開門真空腔體，方便取放基片、更換鎢舟、添加蒸發材料以及真空室的日常維護保養；

真空系統：國產分子泵作為主抽泵，真空極限優于5.0?10-5Pa（經烘烤除氣后）；另可選進口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限優于3.0?10-6Pa（經烘烤除氣后）；

真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；

蒸發源：4～6組金屬或是有機束源爐蒸發源可選，多源共蒸獲得復合膜/分蒸獲得多層膜，功能強大，性能穩定；

蒸發電源：真空專業蒸發電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可預先設置，可實現一鍵啟動和停止的自動控制功能；

基片臺：120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺公轉，轉速0～20r/min連續可調；

基片臺功能：襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調可控）或水冷，基片臺可選升降，源基距350mm；

濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動匹配的射頻濺射電源可任選；

膜厚監控儀：可選配國產或進口單水冷探頭膜厚儀；

可鍍材料：可沉積金屬（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金屬、化合物（MoO3、LiF等）及有機材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；

控制方式：PLC+觸摸屏控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空。