PICOSUN原子層沉積系統ALD R-200基礎版

（PICOSUN™ ALD R-200 Standard）

名稱：原子層沉積系統  產地：芬蘭
 

Picosun簡介

Picosun是yi家公司，Picosun的總部位于芬蘭的Espoo，其生產設施位于芬蘭的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD設備專為高產量和高產量而設計，并且不斷發展以提高效率。Picosun適應性強其客戶包括   大的電子制造商，小型的創新型挑戰者以及  先的大學。 Picosun的組織機構和種類繁多的ALD解決方案都可以滿足每個客戶的需求。PICOSUN®研發工具具有du特的內置可擴展性，可確保將研究結果平穩過渡到大批量工業制造中，而不會出現技術差距。Picosun的熱情在于創新。當您想與設備制造商共同創建定制的ALD解決方案，從而引  行業發展時，Picosun是您的合作伙伴。

Picosundu特的突破性ALD專業知識可追溯到ALD技術本身的誕生。于1974年在芬蘭發明了ALD方法，并在工業上獲得了  。在高質量ALD系統設計方面擁有豐富的經驗。高度敬業的Picosun人員擁有的ALD經驗，并且為ALD的許多  做出了貢獻。

    PICOSUN™ R系列設備提供高質量ALD薄膜的沉積技術，并在各種各樣的襯底上都表現ji佳的均勻性，包括 具挑戰性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。我們為液體、氣體和固體化學物提供的更高級的，易更換的前驅源系統，能夠在晶圓、3D樣品和各種納米特性的樣品上生長顆粒度 小的薄膜層。在 基本的PICOSUN™ R系列配置中可以選擇多個du立的，*分離的源入口匹配多種類型的前驅源。PICOSUN™ R系列du特的擴展性使ALD工藝可以從研究環境直接過渡到生產環境的PICOSUN™ P系列ALD系統。由于研發型與生產型PICOSUN™反應腔室核心設計特點都是相同的,這消除了實驗室與制造車間之間的鴻溝。對大學來說,突破創新的技術轉化到生產中，就會吸引到企業投資。

PICOSUN®R-200標準

PICOSUN®R-200標準ALD系統適用于數十種應用的研發，例如IC組件，MEMS器件，顯示器，LED，激光和3D對象，例如透鏡，光學器件，珠寶，硬幣和醫療植入物。熱ALD研究工具的市場領dao者。它已成為創新驅動的公司和研究機構的shou選工具。

敏捷的設計實現了 高質量的ALD薄膜沉積以及系統的 終靈活性，可以滿足未來的需求和應用。  的熱壁設計具有*du立的入口和儀器，可實現無顆粒工藝，適用于晶圓，3D對象和所有納米級特征上的多種材料。得益于我們專有的Picoflow™技術，即使在 具挑戰性的通孔，超高長寬比和納米顆粒樣品上也可以實現出色的均勻性。 PICOSUN®R-200 Standard系統配備了功能強大且易于更換的液態，氣態和固態化學物質前體源。與手套箱，粉末室和各種原位分析系統集成，無論您現在的研究領域是什么，或以后可能成為什么樣的研究領域，都可以進行高效，靈活的研究，并獲得良好的結果。

技術指標

應用領域

客戶使用PICOSUN™ R系列ALD 設備在150mm和200mm（6”和8”）晶圓上所沉積薄膜厚度均勻性數據。