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晶圓方阻測試儀

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公司成立于2021年,是一家注冊在蘇州、具備技術的非接觸式半導體檢測分析設備制造商。公司集研發、設計、制造、銷售于一體,主要攻克國外壟斷技術,替代進口產品,使半導體材料測試設備國產化。

主要產品:非接觸式無損方塊電阻測試儀、晶圓方阻測試儀、方阻測試儀、硅片電阻率測試儀、渦流法高低電阻率分析儀、晶錠電阻率分析儀、渦流法電阻率探頭和PN探頭測試儀、遷移率(霍爾)測試儀、少子壽命測試儀,晶圓、硅片厚度測試儀、表面光電壓儀JPV\SPV、汞CV、ECV。碳化硅、硅片、氮化鎵、襯底和外延廠商提供測試和解決方案

憑借*的技術和豐富的產品設計經驗申請各項知識產權20余項,已發展成為中國大陸少數具有一定國際競爭力的半導體專用設備提供商,產品得到眾多國內外主流半導體廠商的認可,并取得良好的市場口碑。





晶圓電阻率測試儀,硅片電阻率測試儀,渦流法低電阻率分析儀,晶錠電阻率分析儀,遷移率測試儀,少子壽命測試儀

產地類別 國產 應用領域 生物產業,電子/電池

晶圓方阻測試儀供應商專注于非接觸式半導體計量分析技術的開發和生產,攻克被國外卡脖子技術。

產品廣泛應用于半導體、光伏、科研以及平板材料測試領域。借助公司*計量分析測試技術,為晶圓、碳化硅、硅片、封裝測試等生產和品質監控,提供一整套完整測試和解決方案。

晶圓電阻率測試儀,硅片電阻率測試儀,渦流法低電阻率分析儀,晶錠電阻率分析儀,遷移率(霍爾)測試儀,少子壽命測試儀,方塊電阻有一個特性,即任意大小的正方形測量值都是一樣的,不管邊長是1米還是0.1米,它們的方阻都是一樣,這樣方阻僅與導電膜的厚度等因素有關,表征膜層致密性,同時表征對熱紅外光譜的透過能力,方塊電阻測量數值愈大,則隔離熱紅外性能越差,方塊電阻測量數值愈小則隔離熱紅外性能越好,對于建筑行業來講低輻射玻璃的熱紅外性能測量的快速測量就必須選用方塊電阻測量儀,測量值愈小則建筑材料就愈節能,在建筑材料行業具有很大的作用。

晶圓方阻測試儀技術參數:

樣品尺寸:2"-8"或者16mm×16mm的方形樣品;

遷移率測量范圍:100-20000(cm2/v.sec);

方塊電阻測量范圍:100-3000(ohm/sq);

載流子面密度測量范圍:1E11-1E14(cm-2);

電磁鐵磁場強度:1.0T;

探頭線圈直徑:15mm。






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