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感應耦合電漿化學氣相沉積設備

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2024/7/10 13:40:41
  • 訪問次數(shù) 703

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導體材料研究分析設備的研發(fā)和應用。專業(yè)的團隊,專精的服務,提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導體材料研究與分析設備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術工程師和科研工作者進行現(xiàn)場演示和技術交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器。

客戶至上的服務理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務!

合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

 

半導體材料分析,材料刻蝕

應用領域 環(huán)保,化工,電子/電池

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ICP-CVD 感應耦合電漿化學氣相沉積設備(ICP-CVD)是一種使用ICP的化學氣相沉積技術,可為沉積反應提供一些能量。與PECVD方法相比,ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各種薄膜而不會降低薄膜質(zhì)量。因使用ICP做為電漿源,有電漿濃度較高、能量損耗較低、功率較大與反應速率較高等優(yōu)點。

SYSKEY感應耦合電漿化學氣相沉積設備的ICP-CVD可以精準的控制製程氣體與監(jiān)控其數(shù)據(jù)(壓力、載臺溫度),並提供高品質(zhì)的薄膜。

應用領域腔體
  • 奈米碳管與石墨烯製程。

  • SiOx、SiNx、a-Si、DLC和其他薄

    膜製程。

  • 二維材料。

  • 醫(yī)療和商業(yè)產(chǎn)品的耐磨薄膜。

  • 陽極電鍍處理鋁腔。

  • 通過使用水冷系統(tǒng)、加熱器或

    加熱包來控制腔體溫度。


配置和優(yōu)點選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達

    12寸晶圓。

  • 腔體壓力:50~10-3 Torr。

  • 精準流量控制器,氣體分佈高度均勻,最多可擴充10條氣體管線。

  • 穩(wěn)定的溫度控制,將載盤加熱至700°C。

  • 使用Tornado ICP線圈,ICP電漿範

    圍為50W ~2000W,滿足客戶ICP-CVD製程需求。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手

    套箱整合在一起。

  • RPS用於腔體清潔。

  • 橢圓偏振光譜儀。

  • 發(fā)射光譜儀。

  • 高真空傳送系統(tǒng)。




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