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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>化工機械設備>其它設備>其它化工機械設備> 電漿原子層沉積設備

電漿原子層沉積設備

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 北京瑞科中儀科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2024/7/10 13:52:24
  • 訪問次數(shù) 783

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北京瑞科中儀科技有限公司專注半導體材料研究分析設備的研發(fā)和應用。專業(yè)的團隊,專精的服務,提供理想的解決方案。

我們長期專注于半導體材料研究與分析設備的經(jīng)銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的分析解決方案。以專業(yè)技能為導向,用科技來解決用戶在科研中遇到的難題。專業(yè)的技術(shù)工程師和科研工作者進行現(xiàn)場演示和技術(shù)交流,打消顧慮,彼此協(xié)作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器。

客戶至上的服務理念,以人為本的企業(yè)文化,我們始終為用戶提供專業(yè)的服務!

合作丨共贏,選擇我們,選擇未來!

 

半導體材料分析,材料刻蝕

應用領域 環(huán)保,化工,電子/電池

電漿原子層沉積設備(PEALD)是一種基於常規(guī)ALD的先進方法,其利用電漿作為裂化前驅(qū)物材料的條件,而不是僅依靠來自加熱基板的熱能。 製程中只需靠電漿來進行裂化前驅(qū)物材料,無需高溫來傳遞必要的活化能。SYSKEY的系統(tǒng)可以精準的控制電漿與ALD的製程,薄膜的厚度和均勻度皆+/- 1%。


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電漿原子層沉積設備參數(shù):

應用領域腔體
  • 高k值之氧化物。

  • OLED和矽太陽能電池的鈍化層。

  • 微機電系統(tǒng)。

  • 納米電子學。

  • 納米孔結(jié)構(gòu)薄膜。

  • 光學薄膜。

  • 薄膜封裝技術(shù)。

  • 鋁腔或者不銹鋼腔體,其佔地面積小,可縮短製程時間。

  • 通過使用水冷系統(tǒng)、加熱器或加熱包來控制腔體溫度。




配置和優(yōu)點選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達300mm晶圓。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±1%。

  • 較高的深寬比和複雜結(jié)構(gòu)具有相同特性之薄膜沉積。

  • 遠程等離子體電漿源。

  • 前驅(qū)物材料可多達6種並可分別加熱到200°C。

  • 快速脈衝的氣體輸送閥,反應時間為10毫秒。

  • 通過穩(wěn)定的溫度控制,將基板載盤加熱到800°C。

  • 材料:Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2, Ta2O5, ZnO, AZO, HfO2, SiO2 , TiO2, GaO2, AlN, SiN, Pt…等等。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。

  • 橢圓偏振光譜儀。

  • 高真空傳送系統(tǒng)。






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應用領域腔體
  • 高k值之氧化物。

  • OLED和矽太陽能電池的鈍化層。

  • 微機電系統(tǒng)。

  • 納米電子學。

  • 納米孔結(jié)構(gòu)薄膜。

  • 光學薄膜。

  • 薄膜封裝技術(shù)。

  • 鋁腔或者不銹鋼腔體,其佔地面積小,可縮短製程時間。

  • 通過使用水冷系統(tǒng)、加熱器或加熱包來控制腔體溫度。




配置和優(yōu)點選件
  • 客製化的基板尺寸,最大直徑可達300mm晶圓。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±1%。

  • 較高的深寬比和複雜結(jié)構(gòu)具有相同特性之薄膜沉積。

  • 遠程等離子體電漿源。

  • 前驅(qū)物材料可多達6種並可分別加熱到200°C。

  • 快速脈衝的氣體輸送閥,反應時間為10毫秒。

  • 通過穩(wěn)定的溫度控制,將基板載盤加熱到800°C。

  • 材料:Al2O3, HfO2, SiO2, TiO2, Ta2O5, ZnO, AZO, HfO2, SiO2 , TiO2, GaO2, AlN, SiN, Pt…等等。

  • 可以與傳送腔、機械手臂和手套箱整合在一起。

  • 橢圓偏振光譜儀。

  • 高真空傳送系統(tǒng)。







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