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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>濕法清洗設備>GNP CEANER-412S CMP后清洗機

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GNP CEANER-412S CMP后清洗機

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半導體清洗濕法

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1. 產品概述:

GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站,設計緊湊,占地面積小,可清洗(4“~12“)晶圓。

適用晶圓尺寸:100mm(4")300mm(12")

配置:噴淋清洗、單邊刷清洗、旋轉漂洗干燥(可選:分離QDR)

清潔器尺寸:1,100W 1,100D 1,650Hmm

電刷尺寸:070(外徑)032(內徑)170()毫米

刷隙調節:PLC自動控制(可選刷隙范圍:-10mm ~ 2mm)

化學:NH4OH ~ 1%

可用刷型:雙面PVA

電刷轉速:最高400rpm

旋轉速度:手動加載與自動順序,濕入/干出,最大2,000rpmDIW沖洗/ N2

2. 工藝流程

手動加載,自動順序,濕/干液晶觸摸屏顯示器,程序控制PLC




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