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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>BTF-1200C-SL-A 等離子增加化學氣相沉積CVD系統

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BTF-1200C-SL-A 等離子增加化學氣相沉積CVD系統

具體成交價以合同協議為準

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      安徽貝意克設備技術有限公司成立于2012年,基地位于安徽合肥,是一家集新材料設備研發、生產、銷售與技術服務于一體的高科技企業。

      公司重視技術攻關和產品研發,建有超卓的產品研發中心,擁有一支由多名博士碩士組成的專業研發隊伍,累計獲得patent200余項。并通過產學研合作,與北京大學南開大學等多所院校建立聯合實驗室及研究生聯合培養基地
      公司專注于新材料裝備工藝開發及裝備制造,產品門類涵蓋了OLED材料提純專用設備系列、碳材料制備設備系列、半導體專用設備系列及金屬納米顆粒設備系列四大類共十余個子類,與眾多材料廠商、科研院校等保持長期合作關系,市場營銷網絡遍布全球各地。
      連年來,公司相繼被認定為“高新技術企業”“專精特新企業““科技小巨人培育企業”“石墨烯生長設備工程技術研究中心”“瞪羚企業”“雛鷹企業”,并接連獲得“中國隱形獨角獸500強”“科技創新獎”“創新創業獎”等多項榮譽。

 

 

 

 

 

 

 

 

高溫管式爐,箱式爐,CVD系統,PECVD系統, 等離子清洗機,陶瓷材料燒結設備

一、設備簡介

BTF-1200C-SL-A是一款新型智能型滑軌CVD系統。本設備集真空系統、供氣流量系統、自動推進、加熱于一體,并將所有控制集成于觸屏操控界面之中,使設備更加智能化,便于使用者操作。溫度范圍寬:100-1200度可調,加熱區域長度:1650mm。適用范圍寬:金屬薄膜,陶瓷薄膜等,復合薄膜,連續生長各種薄膜等。


二、技術參數

功率

3KW

額定電壓

AC 220V  50/60HZ

最高溫度

1200℃

工作溫度

1100℃

推薦升溫速率

10℃/min

空開大小(自備)

2P 40A

爐管尺寸

高純石英管Φ100*1400mm


等離子增加化學氣相沉積CVD系統

最大滑動距離

880mm

控溫方式

模糊PID控制和自整定調節,智能化30段可編程控制

控溫精度

±1℃

加熱元件

電阻絲

熱電偶

K型

質量流量計

兩路500sccm+5000sccm

機械泵

10m3/h

設備凈重

約230Kg






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