濕法刻蝕機(jī)臺(tái)是一種在半導(dǎo)體制造和微電子領(lǐng)域用于進(jìn)行濕法刻蝕工藝的關(guān)鍵設(shè)備，通過(guò)將晶圓或材料浸泡在腐蝕液中，利用化學(xué)反應(yīng)去除材料表面的特定區(qū)域。其核心組件包括處理槽、承載裝置、噴藥液裝置及控制系統(tǒng)等。通過(guò)旋轉(zhuǎn)軸帶動(dòng)晶圓旋轉(zhuǎn)，結(jié)合導(dǎo)流噴口使刻蝕液自轉(zhuǎn)，提高刻蝕均勻性。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于晶體管、電容器、傳感器等微細(xì)結(jié)構(gòu)的制造中，具有高選擇比、對(duì)下層材料無(wú)等離子體損傷等優(yōu)點(diǎn)。

主要結(jié)構(gòu)

處理槽：用于容納刻蝕液，通常由耐腐蝕材料制成，如不銹鋼、石英或聚四氟乙烯等。

承載裝置：用于固定待刻蝕的晶圓或其他材料，確保其在刻蝕過(guò)程中保持穩(wěn)定。

噴藥液裝置：向處理槽內(nèi)噴入刻蝕液，有時(shí)還包括導(dǎo)流噴口以控制刻蝕液的流動(dòng)方向和速度。

控制系統(tǒng)：用于控制刻蝕過(guò)程的溫度、時(shí)間、刻蝕液濃度等參數(shù)，以確保刻蝕效果的一致性和可重復(fù)性。

工作原理

將待刻蝕的晶圓或其他材料固定在承載裝置上，然后放入處理槽中。

通過(guò)噴藥液裝置向處理槽內(nèi)噴入刻蝕液，刻蝕液與待刻蝕材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，逐漸去除材料表面的部分區(qū)域。

控制系統(tǒng)根據(jù)預(yù)設(shè)的參數(shù)監(jiān)控和調(diào)節(jié)刻蝕過(guò)程，以確保刻蝕效果符合要求。

應(yīng)用領(lǐng)域

半導(dǎo)體制造：在半導(dǎo)體器件制造過(guò)程中，濕法刻蝕用于形成各種微細(xì)結(jié)構(gòu)，如晶體管、電容器、電阻器等。

微電子機(jī)械系統(tǒng)（MEMS）：在MEMS制造中，濕法刻蝕用于形成復(fù)雜的三維結(jié)構(gòu)，如傳感器、執(zhí)行器等。

光電子學(xué)：在光電子器件制造中，濕法刻蝕可用于形成光學(xué)元件和波導(dǎo)結(jié)構(gòu)。