在微電子與集成電路制造領域，精度與效率是永恒的追求。托托科技自主研發(fā)無掩模光刻機，以其革命性的高階灰度光刻能力，為行業(yè)帶來了變革。

一、重塑光刻工藝

托托科技自主研發(fā)無掩模光刻機融合了激光直寫技術與DMD無掩模技術，實現了在材料表面直接進行高精度加工。這一技術突破，讓我們告別了傳統掩模版的束縛，邁入了高效、靈活的光刻新時代。

二、核心功能，彰顯性能

靈活設計：無需掩模版，省去制版時間和成本，快速驗證設計理念。

高精度加工：400 nm的加工精度，滿足大多數高精度加工需求。

高效生產：1200 mm²/min的加工速度，2 m²的加工幅面，大幅提升生產效率。

灰度光刻：4096階的灰度光刻能力，構建復雜細膩的微觀結構。

三、特色功能，提升用戶體驗

直接繪圖：快速實現設計圖案的繪制，提高研發(fā)效率。

精準套刻：綠光指引，實現精準對準，確保光刻質量。

陣列光刻：快速確認工藝參數，節(jié)省用戶時間。

主動對焦：實時對準，確保光刻聚焦清晰。

四、廣泛應用，覆蓋多個領域

托托科技無掩模光刻機廣泛應用于科學研究、定制化生產、快速原型制造等領域，為電子器件、生物醫(yī)藥、光學元件、微機械等行業(yè)提供高效、靈活的解決方案。

五、推動行業(yè)發(fā)展，共創(chuàng)美好未來

托托科技無掩模光刻機的問世，不僅提升了微電子與集成電路制造領域的精度和效率，還為行業(yè)帶來了靈活性。我們堅信，這款產品將助力我國微電子與集成電路制造業(yè)邁向更高水平，共創(chuàng)美好未來。

托托科技無掩模光刻機——一款創(chuàng)新產品，為您帶來高效、精準、靈活的制造體驗！