微波等離子體輔助原子層沉積系統

Microwave Plasma Atomic Layer Deposition System

Description:

●微波頻率:2.45±0.025 GHz

●微波功率:≥3 KW連續可調

●可實現 <+/-3% 的均勻沉積

●氣體:SiH₄,NH₃, N₂O, Ar, N₂, CF₄, O₂..

●極限壓力:≤1X10 ^-3Torr

●尺寸:8英寸晶圓

●用 途:SiO₂,Si_xN_x...etc.,

原子層沉積是一種特殊的化學氣相沉積技術，通過將氣相前驅體交替地通入反應室，并在基底表面發生化學吸附和反應，形成原子級別的薄膜。

原子層沉積技術具有以下關鍵特性：

?1. 自限制生長?：每次反應只發生在單層原子上，確保薄膜的厚度和組成可控。

2?. 優異的三維保型性?：能夠在復雜形狀的基底上均勻沉積薄膜。

?3. 大面積均勻性?：能夠在較大的基底面積上

應用領域

1. ?微電子?：用于邏輯器件中的高K柵介電質、柵電極HfO2、La2O3等，以及DRAM的電容器介電層?。

2. ?微機電系統（MEMS）?：用于防磨損、防粘附的涂層如Al2O3/TiN?。

3. ?光學?：用于光學濾鏡、透明導電氧化物、防反射圖層、電致發光顯示屏等?。

4. ?新能源?：用于太陽能電池的鈍化層、緩沖層、透明電極，以及鋰離子電池的陽極、陰極、固體電解質?。

5. ?催化材料?：用于氧化物催化劑如MnO2、ZnO、TiO2，以及金屬催化劑如Pt?。

6. ?生物領域?：用于生物傳感器和生物芯片的制備?。