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集成電路制造的關鍵材料是什么-光刻膠 上傳時間:2020/09/22 點播次數:103
為了獲得大的過程可靠性，在涂覆SU-82000抗蝕劑之前，基材應清潔干燥。為了獲得很好的結果，應使用食人魚濕法蝕刻（使用H2SO4和H2O2）清潔基材，然后用去離子水沖洗。基材也可以使用反應離子蝕刻進...
點砂成金的芯片到底有多難 上傳時間:2020/09/15 點播次數:94
光刻膠的顯影和光刻工藝今天小編要跟大家簡要介紹關于光刻膠的顯影過程和光刻工藝處理的一些相關內容。光刻工藝可用五個指標來衡量其效果：分辨率、靈敏度、套刻對準精度、缺陷率和硅片加工過程處理問題，其中有3個...
如何制備鈣鈦礦太陽能電池 上傳時間:2020/09/08 點播次數:150
Laurell高精度WS-650-8型勻膠旋涂儀，可滿足Z大200mm直徑的晶圓片和7"×7"(178mm×178mm)的方片的高精度涂敷。勻膠機(英文名：SpinCoater)適合半導體硅片的勻膠鍍...
如何讓表面更具有親水性 上傳時間:2020/09/08 點播次數:134
HarrickPlasma公司的等離子體表面處理儀是一種小型化、超清洗設備。Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。Harrick等離...
復合材料熱壓液壓成型 上傳時間:2020/09/08 點播次數:87
4122手動加熱型壓片機主要特點帶數字溫度控制和安全防護罩的加熱型壓片機CARVER手動加熱型壓片機，配有程序控溫模塊，安全視窗。Z高壓力包括12噸、25噸和30噸三個型號。廣泛適用于各種材料的成型、...
復合材料是如何液壓/熱壓成型 上傳時間:2020/09/04 點播次數:136
帶數字溫度控制和安全防護罩的加熱型壓片機CARVER手動加熱型壓片機，配有程序控溫模塊，安全視窗。高壓力包括12噸、25噸和30噸三個型號。廣泛適用于各種材料的成型、層壓、壓紋及黏結等。4386(CH...
源自德國工藝，專為科研而造-M6 勻膠旋涂儀 上傳時間:2020/08/13 點播次數:149
M6SpinCoater可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片，使用無刷直流雙向旋轉馬達控制，轉速穩定，控制器可拆卸配合手套箱使用，4.3英寸全彩觸屏人機界面操作，簡單易用。M6SpinCoater外形美觀...
涂膜厚不厚，測測就知道 上傳時間:2020/07/31 點播次數:140
干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關物理量的光學儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會非常靈敏地導致干涉條紋的移動，而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質折射率的變化引起，所以通過...
如何讓你的實驗臺更整潔 上傳時間:2020/07/31 點播次數:148
WS-1000WetStation濕法刻蝕設備，全白色聚丙烯構造，可內置任何Laurell公司的旋涂機及顯影機，排放簡便的入氮口和DI噴頭，如果需要單工的系統，可選擇WS-1000M濕法刻蝕設備，WS...
旋轉跳躍EDC—新一代的旋轉噴淋式濕法處理機臺 上傳時間:2020/07/31 點播次數:165
EDC-650系列勻膠顯影系統適用于半導體前段制程的勻膠，顯影，刻蝕，沖洗，甩干等工藝，可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕，我們有著近三十年半導體濕法工藝的經驗積累，通過對各路試劑注射的準確控制，...
劃片時手抖的看過來，晶圓對準劃片 上傳時間:2020/07/31 點播次數:340
MR200晶圓劃片機手動劃線可準確切割結構化硅晶片的制造MR200的設置可為結構化硅晶片切割提供高精度劃線。MR200是*的工具，特別是對于半導體技術中的REM制備。MR200還適用于少量芯片的單芯片...
等離子清洗機-讓你在PDMS中提升鍵合效果 上傳時間:2020/07/21 點播次數:502
Harrick等離子體表面處理儀的應用范圍：*清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。*清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。*移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。*清洗ATR元...