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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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2020-11-12 閱讀(1768)
EDC濕法顯影刻蝕系統
光刻膠顯影（KrF/ArF）
SU8厚膠顯影
顯影后清洗
PostCMP清洗
光刻膠去除
金屬Lift-off處理
刻蝕微刻蝕處理
新一代的旋轉噴淋式濕法處理機臺，不僅jinque控制試劑注射，還能夠大大節約試劑，綠色環保的濕法處理方案。
頂蓋閥門控制技術
顯影液注射頭的位置
我們采用dujia的VoD頂蓋閥門控制技術，確保在基片中心位置垂直向下噴射，確保樣片表面的試劑受力均勻性。
VS 其他廠商提供的噴射裝置參考如下圖，是從圓弧頂蓋的不同角度傾斜噴射時，樣片收集到的試劑量不均勻，接觸面受力也不均勻，導致樣片表面顯影的時間不一致，出現不均勻，有些區域顯影不夠充分，有些區域過度顯影。
噴射角度jinque控制
我們的噴嘴可隨壓力大小調節噴射角度大小（有具體的角度值對應關系）。
如上圖所示，我方采用的是高jinque控制壓力噴嘴，噴射的扇形角度可以隨壓力和流速予以jinque調節。可以根據樣片的尺寸大小來調節噴射扇形面積，避免扇形過大，浪費試劑。
VS 其他國內廠商采用的是普通噴頭，無法有效jinque地通過改變壓力調節噴射扇形角度。
干進干出
如何做到樣片的“干進干出”避免樣品在顯影完后，被腔體內的殘液二次污染，非常重要。系統除了顯影以外還需要配備樣品沖洗甩干功能，吹氮功能，腔體內壁和頂蓋清洗清洗，樣品背面清洗功能。
以上功能需確保試劑或者去離子水注射開關jinque控制，無殘留無滴漏。
VS國內廠商目前還不具備氣動控制技術和旋轉噴淋后的清洗處理經驗。
高效的廢液處理方案
優化過程控制，減少化學品和消耗品額度使用量。
智能程控，操作方便
配套觸屏控制的SPIN3000軟件，所見即所得。
可視化操作，該軟件具有方便的數據存儲，導入導出，數據模擬和實施記錄功能。
VS 許多國內廠商采用的是PLC程序菜單。
配備藍牙無線連接
為確保濕法處理的安全性，配備藍牙無線連接。
VS 國內廠商采用的是以太網串口通訊連接。
基片和托盤
正確的托盤可確保您的基片在處理過程中的穩固。
卡式鏤空托盤是以小接觸面來固定基片，可對基片的下方實現背面沖洗（BSR）。
安全可靠
經標準獨立測試
已通過Intertek®測試，Intertek®是一家獨立性認證測試機構。
聯鎖裝置
當蓋子打開時聯鎖可防止旋轉，控制軟件可以根據傳感器信息設置中止和警報狀態。相互獨立的閥門設置可防止混合不溶的化學試劑。
定制濕站
裝載和操作一體化，完整高效的濕法處理方案。
