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邁可諾技術有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 參考價 | 面議 |
更新時間：2024-05-17 12:02:57瀏覽次數(shù)：1958
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| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池 |
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M-150
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術。M系列是用于光刻的掩模對準器。M-150專為6英寸晶圓設計，具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個350W的紫外線光源。365nm處的光功率為25mW/cm ?？捎糜谏虡I(yè)半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。
技術參數(shù)
類型 | PLC手動控制系統(tǒng) | 波長 | 350 ~ 450 nm |
掩膜版尺寸 | 最大7英寸 | 紫外光強度 | 15 ~ 25/ ? |
基片尺寸 | 6英寸 | 紫外線光束均勻度 | 3 ~ 5 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟/接近 |
對準精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
紫外燈和電源 | 350W | 選配項 | Anti-vibration table, IR BSA, CCD BSA |
P-150
光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉(zhuǎn)移到半導體或玻璃基板上的光學技術。P-150專為6英寸晶圓設計，具有硬接觸、軟接觸、真空接觸三種接觸方式。曝光器有一個350W的紫外線源。365nm處的光功率為25mW/cm ?？捎糜谏虡I(yè)半導體制造或大學實驗室晶圓制造以及MEMS領域。
技術參數(shù)
類型 | 觸摸屏PC手動控制系統(tǒng) | 波長 | 350 ~ 450 nm |
掩膜版尺寸 | 最大7x7英寸 | 紫外光強度 | 15 ~ 25/ ? |
基片尺寸 | 6英寸 | 紫外線光束均勻度 | 3 ~ 5 % |
分辨率 | 1 ? | 接觸模式 | 真空/硬/軟/接近 |
對準精度 | 1 ? | 顯微鏡 | 雙CCD變焦顯微鏡 |
紫外燈和電源 | 350W | 選配項 | IR BSA, CCD BSA |
