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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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光刻是通過光照射投影的方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形刻在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。利用旋涂技術，將光刻膠均勻涂布在硅片表面通過掩模曝光后，...
有效的生物學和生物醫學研究要求,對細胞微觀環境和生物材料特性需進行特定控制,材料表面的化學和機械性能會顯著影響細胞的生存，擴散和分化.等離子體處理通過引入有益的官能團（羧基，羰基，羥烷基和胺）來清潔、...
對柔性電子學的研究正在創造令人振奮的發展，將當今的剛性電子學轉變為柔性和順應性的技術。這些技術獎豐富我們的日常生活，并使世界變得更安全，更智能，更健康。仔細選擇di一層基材是因為其能夠在制造和使用過程...
RIE/ICP干法蝕刻工藝案例ICP/RIE蝕刻應用范圍：-Si，SiO2，SiN蝕刻工藝-Al，Cr，Ti，TiW，Au，Mo等金屬蝕刻工藝-晶圓尺寸：一片，4英寸，6英寸晶圓RIE等離子刻蝕案例：...
