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KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析儀用于制備和表征具有可控堆積密度的薄膜。當我們需要以半連續的沉積程序來制備超大面積的薄膜時,可以使用這種特殊的KSV NIMA roll to roll 柔性 LB膜制備系統。
納米材料薄膜涂層制備
使用納米顆粒材料制備的涂層和薄膜在各種產品和應用中越來越受到人們的重視和使用,如顯示器、傳感器、醫療器械、儲能材料和能量采集材料等。成功制備出能同時滿足堆積密度、分子取向、膜厚度等多參數要求的均一涂層成為了*的科研挑戰。
而解決這種納米顆粒薄膜涂層制備的一類精密技術就是KSV NIMA 的Langmuir-Blodgett (LB) 技術和 Langmuir-Schaefer (LS) 技術。
技術優勢
KSV NIMA Langmuir膜分析儀可以在液-氣界面制備單分子層,而KSV NIMA Langmuir Blodgett膜分析儀可以在液-氣界面處形成單分子層,然后將該層作為涂層轉移到固體基質上。Langmuir和Langmuir-Blodgett技術具有*的優勢,它們在被廣泛應用于研究一些基本的科學問題。 這些優點包括:
KSV NIMA 柔性LB膜制備系統
KSV NIMA Langmiur和Langmuir-Blodgett膜分析儀是制備和研究單分子層的首要工具。基于30年來研究Langmuir膜累積得到的專業知識和經驗,KSV NIMA 膜分析儀系統已成為一款多用途、功能強大的儀器,可以幫助您獲得高質量數據。該系統設計非常靈活和堅固,可以確保超高質量的結果。當我們需要以半連續的沉積程序來制備超大面積的薄膜時,可以使用一種特殊的KSV NIMA 柔性 LB膜制備系統。
操作原理
如上圖所示,在柔性膜制備過程中,柔性基材被連續地輸送入槽體,在槽體中穿過單層納米顆粒或其他材料。通過對沉積參數進行精確控制,能夠快速地沉積大面積的均勻薄膜。柔性基材的運動由計算機控制的電動輥推動。在此過程中,超靈敏度的微量天平實時監測納米顆粒的堆積密度。
特點與優勢
質量
可用性
多功能性
應用概述
KSV NIMA Langmuir和Langmuir-Blodgett膜分析儀可用于制備高度復雜的有序薄膜。 這些應用包括:
通常用于薄膜制作的材料包括:
軟件
KSV NIMA LB軟件是制備涂層和研究Langmuir薄膜的強大工具。 基于30年的經驗,KSV NIMA LB軟件包含有效和簡便的測量和數據處理所需的所有工具。
多功能測試模式使得測量涵蓋從浸漬到壓縮等溫線、吸附研究和界面流變學。 該軟件將整個測量設置與結果一起保存,便于分析。 所有數據都可以根據需要輕松查看、繪圖、報告和導出。
測試功能包括:
應用實例
納米顆粒、石墨烯和氧化石墨烯涂層
LB和LS技術提供了制備高度有序堆積的納米顆粒薄膜的平臺。 這些涂層具有特殊功能,可用于新的應用。
在KSV NIMA中型槽上使用Langmuir-Blodgett技術沉積在石英基底上的單分子層200nm直徑聚苯乙烯納米球。 (a)單分子層的AFM圖像,(b)同一圖像的傅立葉變換,表明采用該技術可實現優異的結晶度。Copyright Dr. Alaric Taylor
浸漬鍍膜、LB和LS技術已被證明是控制石墨烯和氧化石墨烯薄膜的優良方法。 這些方法大大提高了由液體剝離方法生產得到的SG和SGO的沉積分散可控性。由于液體剝離法被認為是具有*潛力的工業大規模生產石墨烯的方法,因此這些沉積方法在石墨烯研究中具有重要意義。
利用PM-IRRAS,可以記錄漂浮和沉積層的詳細IR光譜以確定化學組成。 可制備一張石墨烯片,以驗證LS是制備和研究單層石墨烯和氧化石墨烯薄膜的好方法。
Gilje, S. et al.,‘Nano Letters’(2007), 7, 3394-339
親脂性蛋白常常存在于細胞膜中,漂浮單分子層模型可用于研究它們在接近原始環境時的相互作用,研究參數包括不同環境或含量的膜的堆積密度。
配件
KSV NIMA提供了廣泛的配件選擇,可以集成到系統中提供進一步的檢測表征功能。包括:
技術參數
KSV NIMA 柔性 LB膜制備系統 | |
表面積 | 2330 cm2 |
槽體內部尺寸 | 685 mm x 340 mm x 4 mm |
滑障速度(mm/min) | 0.1...270 |
滑障類型 | 1 個, POM材質 |
膜天平測量范圍(mN/m) | 0...300 |
膜天平分辨率 (mN/m) | 0.03 |
膜天平數量 | 1 -2個 |
亞相容積(mL) | 5430 |
浸漬井尺寸 | 300 mm x 300 mm x 50 mm |
柔性基板寬度 | 1…200 mm |
柔性基板轉速 | 1…100 mm/min |
輥軸運動位置分辨率 | 20 um |
薄膜提拉角度 | 可調節, 30°- 90 ° |
鍍膜方式手動或半自動 | 鍍膜方式手動或半自動 |
兼容性 | LB膜浸漬鍍膜頭、小型布魯斯特角顯微鏡、表面電位儀、自動進樣泵、亞相蒸發補償工具、LS水平鍍膜裝置等 |