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PECS II精密刻蝕鍍膜儀

儀器簡介：

PECS II精密刻蝕鍍膜儀是一款桌面型寬束氬離子拋光及鍍膜設備。

對于同一個樣品，可在同一真空環境下完成拋光及鍍膜。

一款獨立、結構緊湊的臺式設備。采用兩個寬束氬離子源對樣品表面進行拋光，去除損傷層，從而得到高質量樣品，用于在 SEM，光鏡或者掃描探針顯微鏡上進行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。

采用 WhisperLok®技術，可選配溫控液氮冷卻臺。該功能有助于避免拋光過程中產生的熱量而導致的樣品融化或者結構變化。

PECS II內置了一個 10 英寸的觸摸屏。不管新手還是專家級用戶，都可提高樣品的加工可控性及可重復性。數碼變焦顯微鏡配合 DigitalMicrograph® 軟件，可實現對樣品加工過程的實時監控及儲存彩色照片，這便于在SEM中進行樣品檢查和分析。

性能優點：

主要應用：

技術規格：

離子源
離子槍	兩個配有稀土磁鐵的潘寧離子槍
拋光角度	0 到18°，每支離子槍可獨立調節
離子束能量 (kV)	0.1 – 8.0
離子束流密度峰值(mA/cm²)	10
拋光速率 (µm/h)	90（對于硅試樣）
離子束直徑	可用氣體流量計或放電電壓來調節
樣品臺
樣品大小(長 × 寬 ×高, mm)	32 × 15
轉速 (rpm)	1 – 6
離子束調制	角度范圍可調的單向調制或雙向調制
樣品觀察	數碼變焦顯微鏡，配有 PC 及 DigitalMicrograph 軟件（選配件）
真空系統
干泵系統	兩級隔膜泵支持 80 L/s的渦輪分子泵
壓力 (torr)
基本壓力	5 × 10^-6
工作壓力	8 × 10^-5
真空規	冷陰極型，用于主樣品室；固體型，用于前級機械泵
樣品氣鎖	WhisperLok技術，樣品交換時間小于1 分鐘
用戶界面
10 英寸彩色觸摸屏	操作簡單，且能夠控制所有參數和配方式操作
尺寸及使用要求
外形尺寸 (長 × 寬× 高, mm)	575 × 495 × 615
運輸重量(kg)	45
功耗 (W)
運行時	200
待機時	100
電源要求	通用 100 – 240 VAC，50/60 Hz（用戶額定電壓和頻率）
氬氣(psi)	25

訂貨編號：LR-200636

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