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NMC-4000（M）PA-MOCVD設備：針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統（PA-MOCVD）,該系統具有5個...

NDT-4000熱真空試驗箱：NDT-4000是NANO-MASTER進口熱真空系統，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環套件下測試器件或樣品。該系統具有計算機...

熱真空環境模擬試驗設備：NDT-4000是NANO-MASTER器件測試系統，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環套件下測試器件或樣品。該系統具有計算機控制、安...

空間環境模擬試驗設備：NDT-4000是NANO-MASTER器件測試系統，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環套件下測試器件或樣品。該系統具有計算機控制、安全...

NPC-3500（A）研發用等離子去膠機：NANO-MASTER 等離子去膠和等離子清洗機是專門設計用來滿足晶圓批處理或單晶片處理，具有廣泛應用，從晶圓的光刻膠...

研發用等離子去膠機：Alpha等離子系統ASTRO96是一款低壓微波等離子系統，用于鍵合、模塑、焊錫球黏合前的*進芯片封裝清洗，以及倒裝芯片清洗。ASTRO96...

NDT-4000熱真空系統：NDT-4000是NANO-MASTER器件測試系統，用于極真空及可控均勻的加熱和冷卻循環套件下測試器件或樣品。該系統具有計算機控制...

NOC-4000進口光學鍍膜機：NANO-MASTER NOC-4000光學涂覆系統提供*進的技術，在一個腔體中實現原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第...

NRE-4000型RIE-PE刻蝕機：提供PC控制的PE刻蝕RIE刻蝕一體機，配套有淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品.具有不銹鋼柜子以及13“的上蓋式圓柱形鋁...

NRE-3500型RIE-PE刻蝕機：PC控制的RIE刻蝕PE刻蝕一體機，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝...

NRE-3000型RIE-PE刻蝕機：PC控制的RIE刻蝕PE刻蝕系統，淋浴頭氣體分布裝置以及水冷RF樣品，不銹鋼柜子及13“的上蓋式圓柱形鋁腔,便于晶圓片裝載...

Q240微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為...

Q235微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為...

Q150微波等離子去膠清洗機：Q系列等離子清洗機是石英腔的微波等離子系統，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統為...

ASTRO96全自動微波等離子清洗系統：Alpha等離子系統ASTRO96是一款低壓微波等離子系統，用于鍵合、模塑、焊錫球黏合前的*進芯片封裝清洗，以及倒裝芯片...

AL76C立式微波等離子去膠清洗機：AL76C為一體式緊湊型等離子系統，適用于批量生產，也可以i滿足研發及實驗室應用。并且，此系統可以滿足360度的芯片封裝需要...

AL76微波等離子去膠清洗機：AL76等離子系統適用于批量生產，也可以i滿足研發及實驗室應用。并且，此系統可以滿足360度的芯片封裝需要、工業、醫藥等領域。AL...

AL18微波等離子去膠清洗機：AL18等離子系統適用于小批量生產和研發的*設備。并且，此系統可以滿足360度的芯片封裝需要。AL18系統是一款創新型的通用設備，...

NIE-3500（M）離子束清洗系統：是一款手動放片/取片，但工藝過程為全自動計算機控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統，可以用于表面清洗、表面處理、離子銑。

NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統：是一款自動放片/取片，并且工藝過程為全自動計算機控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統，可以用于表面清洗、表面處理、...