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光學(xué)接觸角測(cè)量?jī)x可根據(jù)客戶的需求，針對(duì)不同的工作測(cè)試環(huán)境，提供相應(yīng)的解決方案，如有技術(shù)請(qǐng)咨詢德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)

等離子刻蝕ICP基片通過預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防...

液相擴(kuò)散技術(shù)（LDT）提供了各種 基材和表面材料的干燥性能性能增強(qiáng)。這種專有的干燥工藝及其它的系統(tǒng)控制生成超純IPA氣霧劑層，在靜止的基板移動(dòng)擴(kuò)散去除水分，不留...

AT-400原子層沉積系統(tǒng)高縱橫比沉積，具有良好的共形性;曝光控制，用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實(shí)現(xiàn)所需的共形性；預(yù)置有經(jīng)驗(yàn)證過的 3D 和 2D 沉積的優(yōu)化配方；簡(jiǎn)單...

在硅片等基板上附膜時(shí)，由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異，產(chǎn)生應(yīng)力，進(jìn)而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲，而薄膜應(yīng)力測(cè)量裝置FLX系列可從這...

ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用，主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...

ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用，主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...

PIE 代表 Plasma ，Ion ，ElectronPIE 專業(yè)致力于等離子刻蝕，清洗，表面處理和離子，電子束產(chǎn)品的應(yīng)用。PIE INC 成立于等離子研究小...

杜邦蝕刻殘留物去除液

杜邦™plasmasolv®ekc265™蝕刻后殘留物去除

法國(guó)JFP是*的手動(dòng)、半自動(dòng)引線鍵合機(jī)的制造商，其產(chǎn)品特別適合于從實(shí)驗(yàn)研究到小規(guī)模試產(chǎn)的電子封裝的需要。全新設(shè)計(jì)的WB-200型半自動(dòng)細(xì)絲鍵合機(jī)非常適合實(shí)驗(yàn)室研...

聲表面波SAW功率發(fā)生器Fxilie簡(jiǎn)化和加速聲流控實(shí)驗(yàn)的一款高精度，頻率的控制器。

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ECOPIA公司的HMS系列霍爾效應(yīng)測(cè)量系統(tǒng)主要由恒電流源、范德堡法則終端轉(zhuǎn)換器、低溫（77K）測(cè)量系統(tǒng)及磁場(chǎng)強(qiáng)度輸入系統(tǒng)組成，擁有研究半導(dǎo)體材料霍爾效應(yīng)所有的...

霍爾效應(yīng)測(cè)試儀主要用于測(cè)量半導(dǎo)體材料的載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數(shù)、導(dǎo)電類型等重要參數(shù)，而這些參數(shù)是了解半導(dǎo)體材料電學(xué)特性必須預(yù)先掌控的，因此霍爾效應(yīng)測(cè)...