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當前位置：上海富瞻環保科技有限公司>>半導體行業儀器>> Aridus3 膜去溶霧化系統
| 產地類別 | 進口 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 綜合 |
Aridus3 膜去溶霧化系統采用低流量、微量霧化器，只需極低量樣品就能分析所有元素，同時系統全部采用PFA惰性材料，可應用于含HF酸的樣品，廢液反抽技術進一步提高了穩定性。
可移動的模塊化膜去溶設計，拆裝和清洗方便
帶蓋保護的PFA霧化室，避免靜電干擾
膜去溶技術，有效減少溶劑對ICP-MS的干擾，顯著降低氧化物和氫化物水平
大大改善信號的穩定性，即使是有機溶劑（如甲醇）
提高ICP-MS的靈敏度4-10倍以上
可選配QuickWash3清洗裝置，有效抑制記憶效應
采用質量流量控制器（MFC）精準控制氣體流量
可通過Aridus Link軟件遠程控制加熱溫度和氣體流速
實驗完成后可啟動氣體自動關閉程序，大大節約氬氣成本
Aridus 3 膜去溶霧化系統：專門為ICP-MS進樣分析研發設計的進樣系統，其能夠最大增強10倍信號強度，同時能夠去除溶劑干擾，極大地降低信號基線，基本上消除氫氧化物干擾。
Aridus進樣系統是把微量霧化器和膜去溶技術相結合，具有如下特性：
具有膜去溶的低流量（<100 µL/min）的微量霧化器
減少了溶劑對ICP-MS的干擾
家氮以增強ICP-MS的信號
所有于樣品相關的部件均為惰性材料制成
泵抽霧化室和溶劑蒸汽瓶的廢液
可與所有ICP-MS 相聯
可與ASX-100微量自動進樣器想配
Aridus進樣系統采用的低流量、氟材料的微量霧化器，而其性能優于高流量的常用的同心型霧化器。以大約60 µL/min常用樣品提升量，Aridus只需小于1mL的樣品就能分析所有的元素。同時Aridus全部采用惰性材料，可應用于含HF酸的樣品。采用泵抽出霧化室和溶劑蒸汽瓶的廢液進一步提高了穩定性。
從霧化室出來的樣品氣溶膠進入加熱的氟材料隔膜，用一反向氬“穿透氣"帶走從膜滲透出來的溶劑蒸汽。
減小了ICP-MS的干擾
Aridus膜去溶能有效去除樣品溶劑蒸汽，顯著地減少諸如來自水中的氧化物、氫化物的干擾，下圖比較了標準氣動霧化器與Aridus系統的CeO/Ce 比率，該CeO/Ce比率從3% 減少為0.05%。
其他水基的干擾ArH +（39）、CO2+（44）、ArO+（56）有明顯的減少，從而使Li、Na、Mg、K、Ca、Fe的檢出限得到明顯改善。
配備Aridus的ICP-MS檢出限：（在普通環境、非冷焰的條件下，ELAN6000型ICP-MS）
Element | m/z | Detection Limit (ng/L) | Element | m/z | Detection Limit (ng/L) |
Li | 7 | 0.4 | K | 39 | 8 |
Na | 23 | 15 | Ca | 44 | 300 |
Mg | 24 | 6 | Fe | 56 | 10 |
增強ICP-MS的信號
在膜去溶后加如少量（5 到 20 mL/Min）的氮能提高分析信號。
信號穩定性
Aridus的1小時信號穩定性：RSD<3%（用Mg24、Co59、Ce140、Pb208 4個通常調諧元素來測定）
Aridus的10小時信號穩定性：RSD<5%（用Mg24、Co59、Ce140、Pb208 4個通常調諧元素來測定）
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