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使用ICP-MS/MS 對高純度Nd2O3中的痕量稀土元素進行常規測定
閱讀：339 發布時間：2019-10-24| 提 供 商 | 上海斯邁歐分析儀器有限公司 | 資料大小 | 364.2KB |
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含稀土元素 (REE) 的高科技產品不斷快速發展。因此，稀土元素的使 用已從玻璃拋光等成熟的應用擴展到高性能磁體、高科技催化劑、電 子、玻璃、陶瓷和合金等領域。第二豐富的 REE 為釹 (Nd)，它與鐵 和硼的合金 (NIB) 是*永磁體中的重要材料，這些*永磁體常用 于車輛部件、計算機數據存儲設備、MRI 掃描儀和揚聲器中。Nd 還 用于制造玻璃吹制工和焊工使用的玻璃和安全玻璃（釹鐠混合物）。 隨著 REE 越來越多地應用于高科技產品，對所有雜質的控制顯得至 關重要。例如，高純單元素 REE 材料中存在的其他 REE 雜質可能對 終產品的功能產生影響。因此，必須嚴格控制 REE 氧化物原材料 中的雜質。
電感耦合等離子體質譜 (ICP-MS) 是測量痕量 REE 常用的原子光譜技術。其部分原因在于 REE 的 質譜圖相對簡單，尤其是相對于由 ICP-OES 等技 術產生的復雜的 REE 發射光譜圖。然而，ICP-MS 測定低質量數 REE 基質中的中等質量數和高質量 數 REE 雜質時面臨著較大的挑戰，因為 REE 的金 屬-氧化物 (M-O) 鍵能很高，且低質量數 REE 的氧 化物離子會與中等質量數和高質量數 REE 的 同位素發生重疊。例如，在分析高純度 Nd2O3 中 的痕量 REE 時，145Nd16OH2 + 和 146Nd16OH+ 與鏑的同位素 (163Dy+ ) 重疊，143Nd16O+ 與鋱的同位素 (159Tb+ ) 重疊，148Nd16OH+ 與鈥的同位素 ( 165Ho+ ) 重疊。雖然痕量 REE 分析物與 REE 基質的 分離可通過螯合樹脂得以實現，但是這種技術耗 時，且需要根據所研究的特定分析物和基質元素定 制分離方法。顯然，開發一種無需前處理、直接分 析各種高純度 REE 基質中痕量 REE 雜質的方法非 常重要。