目錄:沈陽科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司>>真空鍍膜機(jī)>>蒸發(fā)鍍膜>> GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀
| 參考價(jià) | 面議 |
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更新時(shí)間：2023-11-09 11:24:54瀏覽次數(shù)：3068評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,地礦,電子/電池 |
GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及進(jìn)行微小產(chǎn)品真空鍍膜工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)的單位。在蒸發(fā)鍍膜過程中樣品臺(tái)可以進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，使蒸發(fā)的薄膜材料在樣品表面均勻分布。配有兩組蒸發(fā)單元，一個(gè)鎢舟，一個(gè)鎢絲籃；鎢舟中可以放粉末狀的薄膜材料，鎢絲籃中可以放條狀或塊狀薄膜材料?？刂破敛捎?英寸TFT顯示屏顯示操作界面，TFT式顯示屏具有高響應(yīng)度、高亮度、高對(duì)比度等優(yōu)點(diǎn)，觸屏操作，實(shí)現(xiàn)全圖形化界面，易用易懂。是高真空的蒸發(fā)鍍膜設(shè)備，真空度可達(dá)3.0×10-4torr。
特點(diǎn)：
1、采用桌面小型一體化結(jié)構(gòu)，將真空腔體、鍍膜電源及控制系統(tǒng)進(jìn)行整合設(shè)計(jì)，體積與一臺(tái)A3打印機(jī)相仿。
2、采用電阻式雙蒸發(fā)源結(jié)構(gòu)，可快速實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)源的轉(zhuǎn)換。蒸發(fā)單元中裝有兩組蒸發(fā)電極可安裝不同的蒸發(fā)源，適應(yīng)相應(yīng)的鍍膜材料。
3、配有0.1%精度蒸發(fā)電源，并具有恒流輸出功能，對(duì)蒸發(fā)舟能起到很好的保護(hù)作用。
4、可選配石英晶體膜厚控制儀，在鍍膜過程中對(duì)鍍膜速率和膜層厚度進(jìn)行控制。
5、可將采集到的鍍膜數(shù)據(jù)保存到U盤，便于用戶分析控制（選配）。
6、本機(jī)將所有功能設(shè)計(jì)成標(biāo)準(zhǔn)化模塊，根據(jù)用戶不同的需求對(duì)相應(yīng)模塊進(jìn)行組合，以達(dá)到優(yōu)秀的鍍膜環(huán)境，并便于用戶維修與維護(hù)。
7、操作控制采用7英寸TFT顯示屏顯示操作界面，觸屏操作，實(shí)現(xiàn)全圖形化界面，易用易懂。
| 產(chǎn)品名稱 | GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀 | |
| 產(chǎn)品型號(hào) | GSL-1800X-ZF2 | |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、工作臺(tái)：落地式，占地面積2m2以上 4、通風(fēng)裝置：需要 | |
| 主要參數(shù) | 1、電源：AC220V 1500W 2、蒸發(fā)電源功率：1000W 5V 200A 3、蒸發(fā)電極有效距離：44mm 4、樣品臺(tái)：?120mm（可旋轉(zhuǎn)） 5、膜厚測(cè)量精度：0.1 ?或0.01?（可選配高精度型） 6、外接真空機(jī)組：分子泵機(jī)組（可選配GZK-101機(jī)組或GZK-103D機(jī)組） 7、極限真空度：3.0×10-4torr（分子泵） 8、工作真空度：5.0×10-3torr 9、真空接口：KF40 10、使用環(huán)境：溫度35℃，濕度<75%（相對(duì)濕度）不結(jié)露，海拔<1500m | |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸：440mm×240mm×260mm； | |
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