電子半導體用超純水設備

典型工藝流程：

1 預處理系統-反滲透系統-粗混床-精混床-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)

2 預處理-反滲透-EDI裝置-紫外線殺菌器-拋光混床-精密過濾器-用水對象(≥18MΩ.CM)(新工藝)

3 預處理-一級反滲透-二級反滲透-EDI裝置-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM) (新工藝)

4 預處理-反滲透-EDI裝置-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象(≥15MΩ.CM)(新工藝)

5 預處理系統-反滲透系統-粗混合床-精混合床-紫外線殺菌器-精密過濾器-用水對象 (≥15MΩ.CM)(傳統工藝)

6 預處理系統-反滲透系統-粗混合床-精密過濾器-用水對象 (≥5MΩ.CM)(傳統工藝)

水質標準：

達到美國SEMI標準和國家電子級純水標準

設備特點：

為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量。在工藝設計上，取達到國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床系統(EDI電除鹽系統)等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較,具有更高的性價比和設備可靠性。

電子半導體用超純水設備