安慶8噸電子芯片超純水設備是專為滿足電子芯片制造過程中對超純水的需求而設計的水處理系統。以下是該設備的工藝簡介：

1. 預處理階段

• 原水箱：采用不銹鋼材質的立式圓桶，用于蓄水、沉淀和排放。配有進水控制閥、自動液位及低液位控制裝置，確保原水泵無水時停止運行，水位到達高度后再自動開啟原水泵。

• 原水泵：為預處理系統提供穩定的供水流量和壓力，并配有管路回流裝置，以調節預處理系統的壓力及流量。

• 多介質過濾器：利用石英砂等濾料，去除水中的懸浮物、膠體、顆粒雜質等，降低水的濁度，保護后續設備。

• 活性炭過濾器：通過活性炭的吸附作用，去除水中的余氯、有機物、異色異味等，提高水的口感和質量，同時還能延長反滲透膜的使用壽命。

• 阻垢加藥裝置：向水中添加阻垢劑，防止水中的鈣、鎂等離子在反滲透膜表面結垢，保證反滲透系統的正常運行。

2. 反滲透階段

• 精密過濾器：進一步去除水中的微小顆粒和雜質，確保進入反滲透膜的水達到更高的清潔度要求。

• 高壓泵：為一級反滲透裝置提供足夠的壓力，使水分子能夠克服滲透壓，通過反滲透膜。

• 一級反滲透：在壓力作用下，水分子透過反滲透膜，而大部分溶解性鹽類、膠體、微生物、有機物等被截留，從而得到初級純化水。一級反滲透產水電導率可達到10μS/cm以下。

• 一級產水箱：用于儲存一級反滲透產生的純化水，為后續的二級反滲透提供水源。

3. 深度處理階段

• 紫外線殺菌器：利用紫外線的殺菌作用，殺滅水中的細菌、病毒等微生物，確保超純水在儲存和使用過程中不受微生物污染。

• EDI系統（連續電去離子裝置）：通過離子交換樹脂和電場的作用，去除水中的離子，使純化水的電阻率達到18兆歐以上，滿足對水質要求高的生產工藝需求。

• 拋光混床：作為最后的精處理工序，進一步去除水中的微量離子和有機物，提高純化水的質量。

• 用水點：將經過上述處理后的純化水輸送到各個用水點，供工業生產使用。

綜上所述，安慶8噸電子芯片超純水設備通過一系列精心設計的處理流程，從預處理到深度凈化，最終生產出高純度的超純水，滿足電子芯片制造過程中對水質的高要求。