宣城0.5噸半導體小型超純水設備工藝主要包括以下環節：

1. 預處理階段

• 原水增壓泵：對原水進行增壓，為后續處理提供動力，確保水能夠順利流經后續的過濾單元。

• 機械過濾器：通過濾料（如石英砂、無煙煤等）去除水中較大的顆粒物、懸浮物和部分膠體，降低水的濁度，保護后續設備。

• 活性炭過濾器：利用活性炭的吸附性能，去除水中的余氯、有機物、異味和部分重金屬離子，改善水的口感和氣味，防止后續的反滲透膜被氧化。

2. 反滲透系統

• 高壓泵：將經過預處理的水加壓到較高壓力，滿足反滲透膜分離所需的壓力條件，一般操作壓力在1.0 - 1.5MPa之間。

• 反滲透膜組件：在高壓作用下，水分子透過反滲透膜，從高濃度一側向低濃度一側遷移，而大部分溶解性鹽類、膠體、微生物、有機物等被截留，使產水達到一定的純度。

3. 深度脫鹽與精處理

• 離子交換柱：包括陽離子交換柱和陰離子交換柱，進一步去除水中的離子。陽離子交換柱去除水中的陽離子，陰離子交換柱去除水中的陰離子，通過離子交換樹脂的作用，將水中的離子替換為氫離子和氫氧根離子。

• EDI裝置（可選）：連續電去離子裝置，在電場作用下，通過離子交換膜和離子交換樹脂，持續去除水中的離子，可進一步提高水的純度。

4. 后處理與終端拋光

• 紫外線殺菌器：采用紫外線照射殺滅水中的微生物，破壞其DNA結構，確保產水無菌。

• 終端過濾器：常用微孔濾膜過濾器，如0.22微米的濾膜，進一步去除水中可能殘留的微小顆粒和微生物，保證產水的質量和安全性。

• 拋光混床（可選）：對于超純水要求高的情況，可使用拋光混床進行最后的離子交換拋光處理，以獲得超高質量的超純水。

綜上所述，通過這些工藝步驟，宣城0.5噸半導體小型超純水設備能夠制備出符合半導體行業用水標準的超純水，滿足半導體芯片制造過程中的清洗、蝕刻等工藝對水質的嚴格要求。