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常壓等離子體設(shè)備主要有三類：電暈放電等離子體設(shè)備、微波等離子體設(shè)備、多瓦等離子體設(shè)備。
1、電暈放電等離子裝置
電暈放電等離子體裝置是一種基于使用高頻電源產(chǎn)生等離子體的裝置。通過在電極之間施加高頻電壓來(lái)釋放等離子體，并通過與反應(yīng)氣體的化學(xué)反應(yīng)來(lái)對(duì)表面進(jìn)行改性和清潔。一般來(lái)說，它的特點(diǎn)是溫度低，對(duì)樹脂和薄膜等聚合物材料有效。
2、微波等離子體裝置
微波等離子體裝置是利用微波產(chǎn)生等離子體的裝置。通過注入反應(yīng)氣體并施加高頻電場(chǎng)，反應(yīng)氣體吸收微波并產(chǎn)生等離子體。它可以產(chǎn)生高溫等離子體，用于金屬、陶瓷等的高分辨率表面改性和薄膜形成。
3.Dova等離子裝置
Dova Plasma 裝置是一種帶有水平排列的針和板作為電極的裝置。板上有反應(yīng)氣體流過的小孔。通過在針和板之間施加高電壓，針尖處會(huì)產(chǎn)生電暈放電，從而產(chǎn)生等離子體。它可以產(chǎn)生低溫等離子體，可應(yīng)用于細(xì)胞和生物組織的處理。
