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供貨周期	一個月以上	應用領域	綜合

SIGMAKOKI西格瑪Ｙb強激光用電介質膜反射鏡

特別適用于高功率的光纖激光系統使用的反射鏡。

?備有基波（1030nm），2次諧波（515nm），3次諧波（343nm），4次諧波（257nm）等多種波長使用的反射鏡。

?反射率高。經過多次反射后的光量衰減小。

?使用吸收小的電介質膜，適合承受大功率激光的連續照射。

?備有基波（1030nm），2次諧波（515nm），3次諧波（343nm），4次諧波（257nm）等多種波長使用的反射鏡。

?反射率高。經過多次反射后的光量衰減小。

?使用吸收小的電介質膜，適合承受大功率激光的連續照射。

?承接定制產品目錄上沒有的尺寸或波長特性的反射鏡。歡迎利用客戶問詢單咨詢。　　WEB參照/カタログコードW3800 ?可申請定制在低散亂基板上鍍強激光用多層電介質膜。　　 WEB參照/カタログコードW3140 ?備有保證鍍膜后面精度的反射鏡（HTFM）。　　 WEB參照/カタログコードW3002 ?各波長的「波長特性數據」（僅供參考、反射率的單位為R[％]）請參考【這里】。
注意	?請務必確認入射激光光束的能量密度是否低于激光損傷閾值。 ?透鏡或凹面反射鏡匯聚過的光束，更要注意確認其能量密度是否超過元件固有的激光損傷閾值，否則容易發生激光損傷。 ?存在一定的透過光（透過率一般小于1%）。但，光束功率很大時，請務必在反射鏡后面，也采取必要的安全防護措施。 ?入射光束的偏振狀態影響反射率。與S偏光相比，P偏光入射時的反射率略低，適用波長范圍也略窄。 ?樣本上的技術指標中的反射率是P偏光和S偏光的反射率的算術平均值。 ?用于設計波長之外的波長區域時，反射率會降低。