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當前位置：玉崎科學儀器（深圳）有限公司>>ULVAC愛發(fā)科>>蝕刻設備>> NLD-5700日本ULVAC愛發(fā)科半導體光電干法刻蝕設備
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號NLD-5700
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地深圳市
更新時間：2024-11-25 14:29:55瀏覽次數(shù)：304次
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| 價格區(qū)間 | 面議 | 應用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,綜合 |
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日本ULVAC愛發(fā)科半導體光電干法刻蝕設備
日本ULVAC愛發(fā)科半導體光電干法刻蝕設備
用于光器件和MEMS的NLD-5700干法刻蝕系統(tǒng)是配備磁中性線等離子體（NLD）源的用于大規(guī)模生產(chǎn)的干法刻蝕系統(tǒng)。 （采用磁中性線等離子體（NLD）的低壓、低電子溫度、高密度等離子體的干式蝕刻設備，由ULVAC原創(chuàng)開發(fā)。）
通過在潔凈室內(nèi)工作，潔凈室可以擴展到兩個房間（NLD、磁場ICP、CCP和灰化室）。
NLD是一種可以在空間和時間上控制的等離子體，因此干洗很容易。
實現(xiàn)輕松的腔室維護。
我們提供從掩模蝕刻到石英和玻璃蝕刻的工藝解決方案。
半導體技術(shù)研究院提供完善的工藝支持系統(tǒng)。
光學器件（衍射光柵、調(diào)制器、光波導、光開關(guān)等）、不均勻微透鏡。
流體路徑創(chuàng)建 (μ-TAS) 和光子晶體。
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