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簡要描述：感應耦合電漿化學氣相沉積設備是一種使用ICP的化學氣相沉積技術，可為沉積反應提供一些能量。與PECVD方法相比，ICP-CVD可以在較低的溫度下沉積各...

簡要描述：低真空化學氣相沉積設備是一種化學氣相沉積技術，利用熱能在基板表面上引發前驅氣體的反應。表面的反應是形成固化材料的原因。

簡要描述：電漿輔助式化學氣相沉積設備是一種使用電漿的化學氣相沉積(CVD)技術，可為沉積反應提供一些能量。與傳統的CVD方法相比，PECVD可以在較低的溫度下沉...

簡要描述：化學氣相沉積為一種薄膜沉積方法，其中將基材暴露于一種或多種揮發性氣體中，在基板表面上反應或分解以生成所需的薄膜沉積物。這種方法通常用于在真空環境中制造...

簡要描述：PECVD等離子沉積設備DEPOLAB 200根據其模塊化設計，PECVD Depolab 200可升級為更大的真空泵組，低頻射頻源和更多的氣路。

簡要描述：帶預真空室的化學氣相沉積設備SI 500 PPD的特色是預真空室和干泵裝置，用于無油、高產量和潔凈的化學氣相沉積過程。

簡要描述：等離子沉積設備SI 500 D低刻蝕速率，高擊穿電壓，低應力、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態密度，使得所沉積的薄膜具有優...

簡要描述：化學氣相沉積系統PECVD沉積設備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標準的化學氣相...

簡要描述：三到六個端口傳送腔室可用于集成ICP等離子刻蝕機、RIE刻蝕機、原子層沉積系統、PECVD和ICPECVD沉積設備，以滿足研發的要求。樣品可以通過預真...

簡要描述：SENTECH二維材料刻蝕沉積能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟擊...

簡要描述：原子層沉積設備：真遠程等離子體源能夠在低溫100C下高均勻度和高保形性地覆蓋敏感襯底和膜層，在樣品表面提供高通量的反應性氣體，而不受紫外線輻射或離子轟...

簡要描述：PECVD等離子沉積設備Depolab 200是SENTECH基本的等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備，它結合了用于均勻薄膜沉積的平行板電極設...

簡要描述：帶預真空室的化學氣相沉積設備PECVD沉積設備SI 500 PPD便于在從室溫到350℃的溫度范圍內進行SiO2、SiNx、SiOxNy和a-Si的標...

簡要描述：等離子沉積設備低刻蝕速率，高擊穿電壓，低應力、不損傷襯底以及在低于100#176;C的沉積溫度下的低界面態密度，使得所沉積的薄膜具有優異的性能。

簡要描述：X射線探傷機2公司制造X射線工業設備用于控制產品質量，如應用于汽車、航空和食品等部門。此外，公司制造的X射線設備也應用于醫療和安全部門。每個產品在國內...

簡要描述：X射線探傷機X 射線工業設備用于控制產品質量，如應用于汽車、航空航天、管件、研究所和食品等不同行業。此外，制造的 X 射線設備也應用于醫療和安檢部門。...

簡要描述：奧林巴斯生物顯微鏡三目倒置式IX83：奧林巴斯IX83是一臺全電動的倒置生物顯微鏡，智能型的全電動顯微鏡兼具大視野(FN22，左側光口)和IX3-ZD...

簡要描述：尼康基礎偏光顯微鏡LV100 POL優異的光學性能、用途廣泛尼康顯微鏡以高品質獲得了市場的認可，偏光檢驗可用于各種專業。新開發的高亮度作為該機種鹵素光...

簡要描述：尼康超高分辨率顯微鏡N-SIM以傳統光學顯微技術所從未達到的分辨率呈現出極為清晰的細胞結構與分子活動.尼康新推出的N-SIM顯微鏡系統可獲得傳統光學顯...

激光掃描圖形檢測系統簡要描述：激光掃描系統該儀器被設計用于工藝和材料的質量監控，例如單晶或多晶硅。多晶硅磚切割標準的自動輸出。能夠根據爐子的輸出質量進行單獨的爐...