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ESA70W-D日本供貨EBARA荏原 渦旋干式真空泵
參考價: 27326
訂貨量: 1
具體成交價以合同協議為準
  • ESA70W-D 產品型號
  • EBARA/荏原 品牌
  • 經銷商 廠商性質
  • 深圳市 所在地

訪問次數:54更新時間:2025-03-26 11:52:34

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www.kakuhunter.net
址:
www.ikedaya.cn/

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產品簡介
泵軸位置 其他 抽氣量 看型號
抽氣速率 看說明l/s 電壓 100V
功率 0.4kW 極限壓力 看參數pa
流量 0.2m3/h 排出口徑 1mm
輸送介質 其他 外形尺寸 230X450X274
揚程 1m 葉輪數目 其他
應用領域 化工,能源,電子/電池,電氣,綜合 重量 60kg
最大工作壓強 0.55
日本供貨EBARA荏原 渦旋干式真空泵
?半導體工業?:在半導體制造中,渦輪分子泵是制造微電子芯片和半導體器件的關鍵設備。由于半導體工藝需要在高真空環境下進行,渦輪分子泵通過高效抽氣,確保工藝過程中的高真空度,從而保障半導體產品的質量和生產效率?。
產品介紹

日本供貨EBARA荏原 渦旋干式真空泵

日本供貨EBARA荏原 渦旋干式真空泵

應用環節

?硅片生產?:在硅片生產過程中,干式真空泵提供高精度的真空環境,確保硅晶體的拉制質量?。

?電池片制造?:在電池片的制造過程中,干式真空泵用于真空封裝,確保電池片中的材料質量和性能?。

?電池組件封裝?:在電池組件的封裝過程中,干式真空泵提供穩定的真空環境,確保組件的質量和性能?。

應用行業

包括半導體制造、真空冶金、食品工業、科學研究院、航空航天、醫療設備、光學儀器等。

LED行業應用

有效應用于LED制造的各類制程中

隨著顯示器從 LCD 到 LED 到 OLED 過渡,更精確的測量和精密的控制是必需的要求。 正是基于這個原因,顯示器制造業不斷投資于新的技術和功能。

?半導體工業?:在半導體制造中,渦輪分子泵是制造微電子芯片和半導體器件的關鍵設備。由于半導體工藝需要在高真空環境下進行,渦輪分子泵通過高效抽氣,確保工藝過程中的高真空度,從而保障半導體產品的質量和生產效率?。

干式真空泵是一種無需液體密封或潤滑的真空設備,其工作原理基于機械運動改變工作腔容積以實現氣體抽吸和壓縮。以下是對其工作原理的詳細解析:


?核心原理?

干式真空泵通過機械部件的運動,周期性地改變密閉腔體的容積,形成吸氣、壓縮和排氣過程。由于無液體參與密封,其設計依賴于精密配合的間隙和特殊材料,確保高效密封和耐磨性。


?主要類型及工作方式?

  1. ?爪式泵(Claw Pump)?

    • ?吸氣階段?:轉子分離時,腔體容積增大,吸入氣體。

    • ?壓縮階段?:轉子閉合,氣體被壓縮并推向排氣口。

    • ?排氣階段?:壓縮氣體通過排氣閥排出。

    • ?結構?:兩個爪形轉子在泵腔內反向旋轉。

    • ?工作流程?:

    • ?特點?:非接觸式設計,轉子間隙小,耐粉塵。

  2. ?螺桿式泵(Screw Pump)?

    • ?結構?:兩根平行螺桿(通常為單頭或雙頭螺紋)相互嚙合。

    • ?工作流程?:螺桿旋轉時,氣體沿軸向被封閉在螺桿齒槽內,從吸氣端推送至排氣端,通過容積縮小實現壓縮。

    • ?特點?:連續排氣,振動小,適合中高真空。

  3. ?羅茨泵(Roots Pump)?

    • ?結構?:兩個“8"字形葉輪嚙合旋轉。

    • ?工作流程?:葉輪高速反向旋轉,將氣體從進氣口推向排氣口,依賴多級串聯提高壓縮比。

    • ?特點?:無內壓縮,需前級泵配合;大抽速,適合粗真空。

  4. ?渦旋泵(Scroll Pump)?

    • ?結構?:由動渦盤和靜渦盤組成,動盤繞靜盤中心作偏心運動。

    • ?工作流程?:氣體在渦旋槽內被分隔成多個密閉腔,隨著動盤運動,腔體向中心移動并逐漸縮小,氣體被壓縮排出。

    • ?特點?:結構緊湊,低噪音,適合潔凈環境。

  5. ?往復式活塞泵(Piston Pump)?

    • ?結構?:活塞在氣缸內往復運動,配以閥門控制氣流。

    • ?工作流程?:活塞后移時吸氣,前移時壓縮氣體并排出。

    • ?特點?:可達到較高真空度,但振動較大。




























































































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