Fizeau型干涉（斐索干涉）的測量原理主要基于等厚干涉。以下是對其測量原理的詳細解釋：

一、基本原理

斐索干涉儀利用平行光入射到厚度變化均勻、折射率均勻的薄膜上、下表面而形成的干涉條紋來進行測量。當光線在薄膜的上下表面反射時，會形成兩束相干光：一束是來自薄膜上表面的反射光（通常用作參考光束），另一束是透過薄膜并從被測表面反射回來的光（攜帶被測表面的形狀信息）。這兩束光在干涉儀內部重合，形成等厚干涉條紋。

二、光路設計

斐索干涉儀的光路設計包括點光源、準直物鏡、分束器、被測件和觀測系統等部分。點光源發出的光線經準直后，近乎正入射地照射被觀察的透明物體。光線在物體上下表面間多次反射，并從反射方向觀察干涉條紋。常用的斐索干涉儀有平面和球面兩種類型，分別由不同的組件構成以適應不同的測量需求。

三、干涉條紋的形成與解讀

干涉條紋的形成：當參考光束和檢測光束重合時，它們會在觀測系統中形成干涉條紋。這些條紋的形狀和間隔取決于被測表面的形狀和薄膜的厚度變化。

干涉條紋的解讀：通過觀測干涉條紋的形狀和間隔，可以推斷出被測表面的形狀信息。例如，如果干涉條紋是平行的，則表明被測表面是平面的；如果干涉條紋是彎曲的，則表明被測表面是曲面的。

四、測量精度與穩定性

斐索干涉儀的測量精度通常較高，一般可以達到檢測用光源平均波長的十分之一到百分之一。其穩定性也較好，這主要得益于其共光路原理。在干涉儀內部，測量和參考的光束路徑是相同的，因此由空氣湍流、聲學干擾和其他因素引起的波動對于測量和參考波束路徑是相同的，并被抵消。這種設計使得斐索干涉儀對非球面和自由曲面的靈活光學測量更易商用化。

五、應用領域

斐索干涉儀在光學元件的制造和檢測中發揮著重要作用。它可以用于檢測光學元件的面形、光學鏡頭的波面像差以及光學材料的均勻性等。此外，斐索干涉儀還可以用于測量球面的曲率半徑和檢測無限、有限共軛距鏡頭的波面像差等。

綜上所述，Fizeau型干涉（斐索干涉）的測量原理是基于等厚干涉的，通過觀測干涉條紋的形狀和間隔來推斷被測表面的形狀信息。其高精度和穩定性使得它在光學元件的制造和檢測中具有廣泛的應用價值。

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