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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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QualiX-M1Qualitest X射線熒光光譜儀 簡單介紹：QualiX-M1是臺式光譜儀。它配備了*分析技術。它有效地減少了測試干擾，并提高了地質和礦物中Mg，Al，Si，P和其他元素的能量分辨率。該儀器是多功能的，符合標準。 產品型號：QualiX-M1 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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QualiX-2000手持式便攜式XRF光譜儀 簡單介紹：光譜儀簡介 手持式便攜式XRF光譜儀-QualiX-2000系列廣泛用于各種貴金屬合金，低合金鋼，不銹鋼，工具鋼，電子元件，電池，玩具，文具，兒童產品，礦物的精確無損檢測，原礦等。您可以識別材料成分和合金等級。 QualiX-2000可用于許多應用中，幾乎可以對任何種類的樣品進行準確且無損的分析，包括鋼和不銹鋼合金，貴金屬和礦物，電子元件，玩具，食品，文具等。 產品型號：QualiX-2000 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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SC7620濺射鍍膜機 簡單介紹：是Quorum的市場較好的濺射和碳涂層機系列的*新版本。它們越來越多地用于高分辨率顯微鏡，其中包括超細涂層。范圍更廣的是SC7620，這是一款緊湊的入門級SEM濺射鍍膜機，可提供可選的碳纖維蒸發附件 產品型號：SC7620 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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K1050X射頻等離子體蝕刻機 簡單介紹：射頻等離子體蝕刻機Quorum K1050X可以用于使用反應氣體（例如CF 4） 去除硅層，以及用于使用氧氣去除光刻膠。 等離子灰化是指使用氧氣或空氣對有機材料進行可控的低溫去除，其廣泛應用于研究和質量控制領域。RF等離子還可用于塑料和聚合物的表面改性-以及清潔TEM和SEM樣品以及樣品支架。 產品型號：K1050X 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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GloQubePlusTEM清洗機 簡單介紹：TEM清洗機GloQube®Plus是一種經濟高效，緊湊且易于使用的輝光放電系統，旨在滿足使用TEM的實驗室的需求。GloQube®Plus的主要應用是修改TEM網格的表面，使其滿足成功成像的要求。 產品型號：GloQubePlus 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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K850Quorum臨界點干燥儀 簡單介紹：Quorum制造了一系列臨界點干燥機，以滿足電子顯微鏡（EM）和其他應用的需求。 Quorum臨界點干燥儀（有時稱為超臨界干燥）是一種在掃描電子顯微鏡（SEM）中進行檢查之前對生物組織進行脫水的既定方法。這項技術是由Polaron（Quorum的者）于1971年*引入的，用于制備SEM標本，而Quorum E3100 臨界點干燥機仍然體現了包括水平腔室在內的原始設計理念 。 產品型號：K850 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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Automegasamdri-915B美國臨界點干燥儀 簡單介紹：Tousimis成立于1962年，擁有50余年的美國臨界點干燥儀（Critical Point Dryers, CPD）設備制造經驗。Tousimis自成立之初就一直致力于技術革新，著臨界點干燥設備行業的發展。Tousimis可提供直徑從1.25英寸到8英寸的晶片臨界點干燥儀，其因技術*、操作簡便、可靠性高而*，已在材料、化工、生物、制藥、MEMS器件、MOF、生物傳感器等領域 產品型號：Automegasamdri-915B 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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UV-2601/UV-2100/UV-1601紫外/可見分光光度計 簡單介紹：紫外/可見分光光度計成功實現了高精度和可靠性的測量，可以滿足各種應用需求。它可以廣泛用于生化研究和工業，藥物分析和生產，教育，環境保護，食品工業，臨床檢查，衛生和抗流行病等領域中的定量和定量分析。 產品型號：UV-2601/UV-2100/UV-1601 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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QualiFT-IR 5000/F510/F520FTIR分光光度計 簡單介紹：紅外光譜是一種廣泛用于分析和定量多種材料的分析技術。 Qualitest提供了多種實驗室FTIR光譜儀，用于驗證原材料和產品的身份和規格。QualiFT-IR 5000分光光度計建立在升級的集成電子系統之上，該系統設計具有高的靈活性和穩定性。它還帶有更強大的軟件，尤其是FDA CFR 21程序。 產品型號：QualiFT-IR 5000/F510/F520 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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kk250/SI-PM-300自轉公轉混合攪拌機 簡單介紹：自轉公轉混合攪拌機，也稱為糊狀混合機，是一種高效且全自動的設備，專門用于在混合粘性材料的同時進行脫氣。它采用無接觸，無刀片機構，通過同時旋轉和旋轉來混合材料。產物是均勻分散的混合物，甚至除去了亞微米氣泡。該機器可以處理多種材料，例如聚合物，化妝品，藥物軟膏，油墨，焊錫膏，粘合劑，密封膠，導電膏，金屬漿料，納米材料和電極材料 產品型號：kk250/SI-PM-300 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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200S熱板 Hotplate 200S 簡單介紹：烤膠機（英文名：Hot Plate）又名烘膠臺，烤膠臺，加熱平臺，烤膠板，熱臺，熱板等用途可在光刻工藝中的涂膠后的軟烘，暴光后烘，顯影后的堅膜，磨片粘片熔臘等，它采用整體鑄造，加熱板作為加熱體，增強了設備的安全性。采用單片機作為控制核心部件，有*精準的控溫精度，緊湊美觀。該設備對一些溫度敏感材料（如晶體、半導體、陶瓷等）進行加熱和裝卡尤為適用。 產品型號：200S 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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JV 1000/JV 2000振實密度測試儀Paul N 簡單介紹：測量粉末，顆粒和類似產品的堆積密度 該技術在粉末流動性研究中以及在運輸過程中確定沉降量以優化包裝尺寸（例如洗衣粉）時特別有用。通過機械敲擊裝有被測樣品的量筒（即升高量筒并使其在其自重下下降3 +/- 0.2毫米的距離）來獲得堆積密度。 產品型號：JV 1000/JV 2000 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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MSP100/MSP300/MSP500顯微分光光度計DUV-VIS-NIR 簡單介紹：顯微分光光度計DUV-VIS-NIR（Micro-Photometer，Micro Spectrophotometer）用于表征在微米區域內的薄膜，厚涂層的光學特性。顯微分光光度計也稱為微反射計，顯微光譜儀，顯微光度計，顯微光譜光度計等。用戶可實時視頻，強大的數字編輯，反射測量工具享受顯微光譜儀（MSP系列）的數字成像功能，透射，吸收光譜，數據采集僅需幾毫秒。 產品型號：MSP100/MSP300/MSP500 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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SE200BM，SE300BM和SE500BM光譜橢偏儀帶自動監測 簡單介紹：橢圓偏振光譜（SE）是一種成熟的光學技術，用于以非破壞性和非接觸方式表征塊狀材料，薄膜，涂層，表面層和嵌入層。對于常規和晶圓廠加工質量控制，必須有一個自動盒式裝卸機。為此，我們開發了一種低成本解決方案，可將晶圓尺寸從2“擴展到8"（臺式），將塔式尺寸擴展到12“。用戶甚至可以為每個插槽定義配方，從而為整個盒式磁帶測量定義配方。 產品型號：SE200BM，SE300BM和SE500BM 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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SE-SOLAR光伏光譜橢偏儀 簡單介紹：橢圓偏振光譜儀SE-Solar專為光伏（PV）應用而設計。它可以配置為覆蓋DUV到NIR范圍，可以使用手動測角儀以5度間隔改變入射角，也可以配置為自動測角儀，分辨率為0.001度。基于陣列的檢測設置可為用戶提供快速測量，每個數據只需幾秒鐘。當需要映射或實時原位測量時，這是所有SE模型中的*選擇。 產品型號：SE-SOLAR 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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SE-MSP光譜橢偏儀顯微分光光度計 簡單介紹：對于某些應用（例如MEMS或半導體產品晶圓上的功能），希望有一個小的探測點。將顯微分光光度計與橢圓偏振光度計集成在一起后，工具的功能將大大擴展。可通過橢圓偏振光度法在超薄膜上工作，并且還具有通過微反射法與橢圓度計和微分光光度計相結合的*配置的小面積微反射法。 產品型號：SE-MSP 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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TFProbe IRSE紅外光譜橢偏儀IRSE 簡單介紹：紅外光譜橢圓儀（IRSE）可以表征材料的結構（厚度，界面，表面粗糙度，污染），光學（光學常數），電（導電性）以及化學信息。 產品型號：TFProbe IRSE 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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CPT-ULTRA-19超聲噴涂系統 簡單介紹：超聲噴涂系統應用廣泛，各類材料制備噴涂，太陽能電池噴涂，薄膜電池噴涂，鈣鈦礦電池制備噴涂等其他各類自動化噴涂工藝應用。比如：鈣鈦礦制備氧化鎳，氧化錫，氧化鈦的電子傳輸層制備設備。 產品型號：CPT-ULTRA-19 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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高精度狹縫擠出式涂布機（可適配于套箱） 簡單介紹：狹縫式涂布技術（ SlotDie Coating）優點為涂膜均勻性高、可適用的涂料黏度范圍廣、涂布速度快、以及可制作大面積的涂膜。 產品型號： 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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AS-OneAS真空快速退火爐 簡單介紹：AS真空快速退火爐，性能ZYUE，可搭配分子泵實現高真空下熱處理工藝。Z高溫度1500 ℃，Z快升溫速率200℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過沖，控溫精度準確。 產品型號：AS-One 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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