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Harrick PDC-2等離子清洗機

Harrick PDC-2等離子清洗機儀器應用：

1. 高分子材料表面修飾。

2. 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

3. 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。

4. 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。

5. 清洗半導體元件、印刷線路板。

6. 清洗生物芯片、微流控芯片。

7. 清洗沉積凝膠的基片。

8. 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。

9. 牙科材料、人造移植物、醫療器械的消毒和殺菌。

10. 改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的

粘和力。

主要特點：

1. 緊湊臺式設備、沒有RF放射、符合CE安全標準。

2. 功率為低、中、高三檔可調。

3. 基本型：

- 清洗腔：長6.5英寸，直徑3英寸,腔蓋可拆卸；

- RF線圈zui大施加功率18W；

- 1/8NPT針孔閥控制氣流及腔體壓力；

- 整機尺寸：8.5英寸H × 10英寸W × 8英寸D；

- 重量：13 lbs；

4. 選配件

- 石英等離子清洗腔；

- 氣體流量混合器；

- 真空泵；

參考客戶：

       蘭州大學  鄭州大學 上海交通大學 上海復旦大學 合肥工業大學 成都電子科技大學 北京大學  清華大學醫工所  蘭州化物所 中科院納米所 等等