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Harrick Plasma 具有悠久歷史的專業光學光譜儀器的設計和制造。自1969開始，Harrick Plasma ，行業享有盛名。該公司的創始人N. J. Harrick博士，開創了內反射光譜和成為該技術的主要*。
Harrick Plasma 研發了三十多年前的*臺臺式研究等離子體器件。現在Harrick Plasma 儀器在許多研究實驗室是廣泛應用。

Plasmaflo是可選配件

可用于任何與等離子清洗機模型結合，有利于氣體混合，氣體的流量和真空壓力監測更精確的定量控制。

PlasmaFlo 特征：

（PDC-FMG (115V); PDC-FMG-2 (230V)）

兩種工藝氣體比例混合控制流量，也可獨立控制兩種工藝氣體的流量的雙過程流量計
常壓下zui大49mL/min 的流量
精度± 2%
熱電偶真空計，數值顯示（范圍1 to 1999 mTorr）
重量：7 lbs
尺寸：8.5" H x 10" W x 8" D

* zui大流量隨工藝氣體和調節壓力變化。流量計可用于常見的工藝氣體（空氣，氬氣，氮氣，氧氣）。

其他工藝氣體請咨詢 German First-Nano System （HK）Limited

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