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LSC-5000全自動兆聲大基片濕法刻蝕系統概述：

技術的兆聲和清洗技術的發展，對MEMS和半導體等領域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得zui干凈的晶圓片和掩模版。

German First Nano System提供兆聲單晶圓&掩模清洗(SWC)系統，用于*進的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到*化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。German Fisrt Nano System 技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的zui大化支持的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。

LSC-5000全自動兆聲大基片濕法刻蝕系統應用：

濕法刻蝕
硅片
藍寶石片
圓框架上的芯片
顯示面板
ITO涂覆的顯示屏
帶保護膜的分劃版
掩模版空白部位
掩模版接觸部位
帶保護膜/不帶保護膜的掩模版
LSC-5000全自動兆聲大基片濕法刻蝕系統的特點：

支持450mm直徑的圓片或15"x15"方片
帶兆聲、DI、刷子、熱DI、高壓DI、熱氮、化學試劑滴膠臂的大腔體
帶化學試劑滴膠的刷子轉速可調節
帶LABVIEW軟件的PC全自動控制
觸摸屏用戶界面
機械手上下載片，帶EFEM以及SMIF界面
安全互鎖及警報裝置
30"D x 26"W 的占地面積  
LSC-5000全自動兆聲大基片濕法刻蝕系統選配項：

化學試劑傳輸模塊
Piranha溶液清洗                                       
臭氧化DI水（20ppm的O3）
氫化的DI水
高壓DI水
熱DI水
溶劑和酸分離排放
IR紅外加熱
DI水循環機
耐火立柜