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美國NXQ以的性能，經(jīng)濟(jì)的價(jià)格，深受用戶喜愛，截至2016年底，超過5000臺NXQ曝光系統(tǒng)遍布*科研實(shí)驗(yàn)室，研發(fā)中心。

NXQ4000系列半自動掩膜對準(zhǔn)曝光系統(tǒng)，融合了獨(dú)立的模塊化設(shè)計(jì)，精準(zhǔn)控制對準(zhǔn)和曝光等特點(diǎn)，自動程序控制使得該系統(tǒng)易于操作存儲和使用，適合實(shí)驗(yàn)室多用戶使用。

該系統(tǒng)特點(diǎn)：

• 鍥型誤差補(bǔ)償系統(tǒng)----*的WEC設(shè)計(jì)

• 紫外燈源的多樣性選擇

• 曝光光路的精準(zhǔn)控制

• 視像分辨技術(shù)------在Video View Microscope 和Quadcam Microscope中快速切換

• 高效對準(zhǔn)控制-----可選配IR或OBS雙面對準(zhǔn)

使用領(lǐng)域（包括但不限于下述領(lǐng)域的光刻工藝）