應用領域 |
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半導體工業超純水設備是專為半導體生產而設計的關鍵設備。它采用多級過濾、反滲透、離子交換等先進技術,能有效去除水中的顆粒、有機物、微生物及各種離子。產出的超純水電阻率,幾乎不含任何雜質。該設備確保了半導體制造過程中晶圓清洗、蝕刻等環節的用水品質,防止因水質問題導致產品缺陷。其具有高效、穩定、可靠的特點,為半導體工業的高質量生產提供了堅實的保障,是半導體企業的重要設備。
半導體工業超純水設備通常采用以下工藝:
一、預處理
多介質過濾器:
活性炭過濾器:
軟化器:
二、反滲透處理
保安過濾器:
反滲透裝置:
作用:反滲透是超純水設備的核心工藝之一,它利用半透膜的原理,在壓力的作用下,使水通過半透膜而鹽分等雜質被截留,從而達到去除水中各種離子、有機物、微生物等的目的,生產出高純度的水。
舉例:反滲透膜的孔徑非常小,只有 0.0001 微米左右,可以有效地去除水中的溶解性固體、細菌、病毒等。反滲透裝置一般由反滲透膜元件、壓力容器、高壓泵等組成。在半導體工業中,反滲透水通常作為進一步處理的水源,以滿足更高的水質要求。
三、深度除鹽處理
離子交換樹脂:
作用:通過離子交換的方式,進一步去除水中的離子雜質,使水的電阻率達到更高的水平。離子交換樹脂通常分為陽離子交換樹脂和陰離子交換樹脂,分別用于去除水中的陽離子和陰離子。
舉例:當反滲透水通過離子交換樹脂時,水中的陽離子(如鈉離子、鈣離子等)與陽離子交換樹脂中的氫離子進行交換,水中的陰離子(如氯離子、硫酸根離子等)與陰離子交換樹脂中的氫氧根離子進行交換,從而使水中的離子雜質被去除,水的電阻率得到提高。在半導體工業中,離子交換樹脂通常用于生產電阻率高達 18.2 MΩ?cm 的超純水。
EDI(電去離子)裝置:
作用:EDI 是一種新型的深度除鹽技術,它結合了離子交換和電滲析的原理,在電場的作用下,使水中的離子通過離子交換膜遷移到濃水室,從而實現水的深度除鹽。EDI 裝置具有連續運行、無需化學再生、出水水質穩定等優點。
舉例:在半導體工業中,EDI 裝置通常與離子交換樹脂聯合使用,進一步提高水的電阻率和純度。EDI 裝置可以去除水中的微量離子雜質,使超純水的水質達到更高的標準,滿足半導體生產過程中對水質的嚴格要求。
四、后處理
紫外線殺菌器:
超濾裝置:
終端過濾器:
半導體工業超純水設備的常見工藝,不同的半導體企業可以根據自身的生產需求和水質情況,對工藝進行適當的調整和優化。同時,為了確保超純水設備的穩定運行和出水質量,還需要進行定期的維護和保養,包括更換濾芯、清洗膜元件、檢測水質等。