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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 產品圖片 | 產品名稱 | |||
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MSP100/MSP300/MSP500顯微分光光度計DUV-VIS-NIR 簡單介紹：顯微分光光度計DUV-VIS-NIR（Micro-Photometer，Micro Spectrophotometer）用于表征在微米區域內的薄膜，厚涂層的光學特性。顯微分光光度計也稱為微反射計，顯微光譜儀，顯微光度計，顯微光譜光度計等。用戶可實時視頻，強大的數字編輯，反射測量工具享受顯微光譜儀（MSP系列）的數字成像功能，透射，吸收光譜，數據采集僅需幾毫秒。 產品型號：MSP100/MSP300/MSP500 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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SE200BM，SE300BM和SE500BM光譜橢偏儀帶自動監測 簡單介紹：橢圓偏振光譜（SE）是一種成熟的光學技術，用于以非破壞性和非接觸方式表征塊狀材料，薄膜，涂層，表面層和嵌入層。對于常規和晶圓廠加工質量控制，必須有一個自動盒式裝卸機。為此，我們開發了一種低成本解決方案，可將晶圓尺寸從2“擴展到8"（臺式），將塔式尺寸擴展到12“。用戶甚至可以為每個插槽定義配方，從而為整個盒式磁帶測量定義配方。 產品型號：SE200BM，SE300BM和SE500BM 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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SE-SOLAR光伏光譜橢偏儀 簡單介紹：橢圓偏振光譜儀SE-Solar專為光伏（PV）應用而設計。它可以配置為覆蓋DUV到NIR范圍，可以使用手動測角儀以5度間隔改變入射角，也可以配置為自動測角儀，分辨率為0.001度。基于陣列的檢測設置可為用戶提供快速測量，每個數據只需幾秒鐘。當需要映射或實時原位測量時，這是所有SE模型中的*選擇。 產品型號：SE-SOLAR 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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SE-MSP光譜橢偏儀顯微分光光度計 簡單介紹：對于某些應用（例如MEMS或半導體產品晶圓上的功能），希望有一個小的探測點。將顯微分光光度計與橢圓偏振光度計集成在一起后，工具的功能將大大擴展。可通過橢圓偏振光度法在超薄膜上工作，并且還具有通過微反射法與橢圓度計和微分光光度計相結合的*配置的小面積微反射法。 產品型號：SE-MSP 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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TFProbe IRSE紅外光譜橢偏儀IRSE 簡單介紹：紅外光譜橢圓儀（IRSE）可以表征材料的結構（厚度，界面，表面粗糙度，污染），光學（光學常數），電（導電性）以及化學信息。 產品型號：TFProbe IRSE 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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CPT-ULTRA-19超聲噴涂系統 簡單介紹：超聲噴涂系統應用廣泛，各類材料制備噴涂，太陽能電池噴涂，薄膜電池噴涂，鈣鈦礦電池制備噴涂等其他各類自動化噴涂工藝應用。比如：鈣鈦礦制備氧化鎳，氧化錫，氧化鈦的電子傳輸層制備設備。 產品型號：CPT-ULTRA-19 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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高精度狹縫擠出式涂布機（可適配于套箱） 簡單介紹：狹縫式涂布技術（ SlotDie Coating）優點為涂膜均勻性高、可適用的涂料黏度范圍廣、涂布速度快、以及可制作大面積的涂膜。 產品型號： 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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AS-OneAS真空快速退火爐 簡單介紹：AS真空快速退火爐，性能ZYUE，可搭配分子泵實現高真空下熱處理工藝。Z高溫度1500 ℃，Z快升溫速率200℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過沖，控溫精度準確。 產品型號：AS-One 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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AS-Micro真空快速退火爐 簡單介紹：AS-Micro真空快速退火爐，性能，可搭配分子泵實現高真空下熱處理工藝。zui高溫度1250 ℃，zui快升溫速率250℃/Second。全程PC軟件控制升溫程序，保證溫度不過沖，控溫精度準確。 產品型號：AS-Micro 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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Tergeo小型等離子去膠機 簡單介紹：美國Tergeo系列臺式等離子去膠機專為實驗室，研發和小規模生產部門提供性價比高的小型等離子去膠設備，等離子強度探測器實時定量檢測等離子狀態。 產品型號：Tergeo 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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M6 Spin CoaterMINN M6勻膠旋涂儀 簡單介紹：MINN M6勻膠旋涂儀 可旋涂處理小碎片至6英寸圓晶圓片，使用無刷直流雙向旋轉馬達控制，轉速穩定，控制器可拆卸配合手套箱使用，4.3英寸全彩觸屏人機界面操作，簡單易用。M6 Spin Coater外形美觀，結構緊湊，專為實驗室，研發和小規模生產部門提供性價比高的勻膠涂覆設備。M6 Spin Coater在材料、化學或生物等實驗室被廣泛用于薄膜制備，納米薄膜研究等相關領域。 產品型號：M6 Spin Coater 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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納米壓印光刻膠 簡單介紹：公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料，熱壓型納米壓印膠、熱塑型納米壓印膠、紫外光固化型納米壓印膠、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術相關的化學藥品，如模板防粘劑、基片增粘劑等。 產品型號： 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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2035/2050/2075/2100光刻膠SU-8 2000 簡單介紹：SU-8 2000是一種高對比度，基于環氧的光致抗蝕劑，設計用于微加工和其他微電子應用，需要厚，化學和熱穩定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方，多年來已被MEMS生產商廣泛使用。使用更快干燥，極性更大的溶劑系統可改善涂層質量并提高工藝產量。 SU-8 2000有十二種標準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯的部分不溶于液體顯影劑。 產品型號：2035/2050/2075/2100 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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KW-4E可控溫型智能程控KW勻膠機 簡單介紹：可控溫型智能程控KW勻膠機-4E可控溫型智能程控勻膠機，帶進膠保護與報警 ，旋涂正反轉可自由切換 ，旋涂腔室整體采用PTFE材料防酸防堿防腐蝕。 產品型號：KW-4E 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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UV-1800UV-1800紫外/可見分光光度計 簡單介紹：掃描型分光光度計，波長范圍寬，滿足各種領域的需求。 ?光譜帶寬選擇的三種選擇：5nm，2nm，1nm，可根據客戶需求進行選擇，滿足藥典要求 ?手動4格支架可容納長距離長100mm的電池。 ?來自世界有名制造商的優化的光學和電子設計，光源和檢測器確保了高性能和可靠性 ?豐富的測量方法：波長掃描，時間掃描，多波長確定，多階導數確定，雙波長方法和三波長方法等，滿足不同的測量要求。 產品型號：UV-1800 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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3010/3005/3025/3050SU-8 3000光刻膠 簡單介紹：SU-8 3000是一種高對比度，基于環氧的光刻膠，專為微加工和其他微電子應用中， 需要化學和熱穩定的圖像。 SU-8 3000是SU-8和SU-8 2000的改進配方，已被廣泛采用 由MEMS生產商使用多年。 SU-8 3000有配制用于改善附著力和降低涂層應力。 SU-8 3000的粘度范圍允許膜厚為4至單層涂層厚度為120 µm。 產品型號：3010/3005/3025/3050 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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2005/2010/2025光刻膠SU-8 2000 簡單介紹：SU-8 2000是一種高對比度，基于環氧的光致抗蝕劑，設計用于微加工和其他微電子應用，需要厚，化學和熱穩定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方，多年來已被MEMS生產商廣泛使用。使用更快干燥，極性更大的溶劑系統可改善涂層質量并提高工藝產量。 SU-8 2000有十二種標準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現0.5至 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯的部分不溶于液體顯影劑。 產品型號：2005/2010/2025 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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Model18美國Jelight紫外臭氧清洗機 簡單介紹：Jelight紫外臭氧清洗機是一種快速干法表面清洗工具。其原理是利用紫外光子對有機物質所起的光敏氧化作用以達到清洗粘附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物）的目的。是清除硅、砷化鎵、石英、藍寶石、玻璃、云母、陶瓷、金屬等表面有機污染物的較安全、較有效的方法。 除清洗外，Jelight紫外臭氧清洗機還可用于表面改質，如通過紫外處理后，涂層與表面的粘附力可大大增加，可用于生物芯片制作過程中PDMS鍵合 產品型號：Model18 所在地：國外 更新時間：2024-05-17 |
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Solaris 150UV快速退火爐 簡單介紹：美國RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%，處理的大尺寸可以達到200mm，溫度可以達到1200攝氏度，處理過程可以在真空環境或者惰性氣體的環境中執行，做多可支持4~6路進氣，可以用到的氣體包含N2，O2，N2H2，Ar和H2。 產品型號：Solaris 150UV 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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Solaris Eclipse快速退火爐系統SS 簡單介紹：快速退火爐系統SSI是一個簡單穩定的熱處理系統，適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結構的快速熱低溫退火（RTA），（如電子級硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導體、陶瓷等等）。 產品型號：Solaris Eclipse 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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