監(jiān)控薄膜沉積，有力的工具

KLA Filmetrics F30薄膜厚度測(cè)量?jī)x光譜反射率系統(tǒng)能實(shí)時(shí)測(cè)量沉積率、沉積層厚度、光學(xué)常數(shù) (n 和 k 值) 和半導(dǎo)體以及電介質(zhì)層的均勻性。

樣品層

KLA Filmetrics F30薄膜厚度測(cè)量?jī)x分子束外延和金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積: 可以測(cè)量平滑和半透明的，或輕度吸收的薄膜。 這實(shí)際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導(dǎo)體材料。

各項(xiàng)優(yōu)點(diǎn):

• 極大地提高生產(chǎn)力

• 低成本 —幾個(gè)月就能收回成本

• A精確 — 測(cè)量精度高于 ±1%

• 快速 — 幾秒鐘完成測(cè)量

• 非侵入式 — 在沉積室以外進(jìn)行測(cè)試

• 易于使用 — 直觀的 Windows™ 軟件

• 幾分鐘就能準(zhǔn)備好的系統(tǒng)

型號(hào)規(guī)格